CVD įranga, skirta grafeno ir anglies nanovamzdelių medžiagoms / puslaidininkinei įrangai, Kinija CVD įranga, skirta grafeno ir anglies nanovamzdelių medžiagoms / puslaidininkinei įrangai Gamintojai, tiekėjai, gamykla

Prekės aprašymas

CVD įranga grafeno ir anglies nanovamzdelių medžiagoms

Įranga daugiausia naudojama grafeno ir nano medžiagų dengimui; Polikristalinio silicio ir silicio karbido difuzija, oksidacija ir atkaitinimas.

CVD įranga, skirta grafeno ir anglies nanovamzdelių medžiagoms / puslaidininkinės įrangos informacija

CVD įranga grafeno ir anglies nanovamzdelių medžiagoms / puslaidininkinės įrangos gamykla

detalizavimas

struktūrinis stilius	Horizontalus, vieno vamzdžio arba kelių vamzdžių sistemos automatinis valdymas
Prisitaikykite prie vaflio dydžio	2–8 coliai
Vaflių pristatymo ir paėmimo būdas	Automatinis konsolinis kvarcinis stūmimo ir traukimo valtis, kartu su rankiniu drožlių paėmimu ir atleidimu.
maksimali temperatūra	1050 ℃
darbinė temperatūra	400 ℃ ~ 850 ℃ nuolat reguliuojama
Vieno taško temperatūros stabilumas	400 ℃ ~ 850 ℃ ≤ ± 0.5 ℃ / 24 val.
Sistemos ribinis vakuumas	Geriau nei 1Pa
siurbimo greitis	Siurbimo laikas vakuumui apriboti ＜ 15min
Darbinio slėgio diapazonas	Nuo 5Pa iki 1 × 105Pa nuolat reguliuojamas
Elektros energijos tiekimas	3 fazių 5 laidų 380V±10%，50Hz
aušinimo vanduo	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakavimas ir pristatymas

Kompanijos profilis

Turime 16 metų patirtį įrangos pardavimo srityje. Mes galime suteikti jums profesionalų vieno langelio puslaidininkių priekinės ir galinės pakuotės linijos įrangos sprendimą iš Kinijos.