CVD Įrangą grafiniui ir anglies nanorinkeliams / Semiconductorių įranga , China CVD Įrangą grafiniui ir anglies nanorinkeliams / Semiconductorių įranga Manufacturers, Suppliers, Factory

Produkto aprašymas

CVD įrenginys grafeno ir anglies nanotubų medžiagoms

Įrenginys pagrindiniu būdu naudojamas grafeno ir nano medžiagų uždangos procesams; Polikristalinio silicio ir silicio karburo difuzija, oksidacija ir atkaita.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specifikacija

konstrukcinis stylus	Horizontalus, vienvamzdžio arba daugiamvamzdžio sistema su automatiniais valdymo elementais
Tinkamas plienelio dydžiui	2-8″
Plienelių pristatymo ir gaubimo būdas	Automatinis kvartozo su skylu potvynis, sujungtas su rankiniu elementų paimimo ir išleidimo mechanizmu.
Maksimali temperatūra	1050℃
Darbo temperatūra	400 ℃~850 ℃ tolygiai reguliuojamas
Vietaus temperatūros stabilumas	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Sistemos ribinis vakuumas	Geresnis nei 1Pa
Vamzdinimo greitis	Laikas vamzdinti iki ribinio vakuumo < 15Min
Darbo slėgio diapazonas	5Pa iki 1 × 105Pa tolygiai reguliuojama
Energijos šaltinis	3 fazės 5 laidų 380V±10%, 50Hz
Invaliuojamos vandens	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakavimas ir pristatymas

Įmonės Profilis

Mes turime 16 metų patirties įrangos pardavimuose. Galime suteikti jums vieną iš pirmųjų ir galinių paketų eilės įrangos profesionalų sprendimą iš Kinijos.