Proses menggunakan bahan kimia khas untuk mengeluarkan secara selektif bahagian atas bahan yang dipanggil photoresist. Photoresist adalah bahan perekat yang dinyalakan oleh cahaya. Sifat yang diubah bagi bahan photosensitive membolehkan pembentukan bentuk dan reka bentuk unik semasa terdedah kepada cahaya. Dengan cara ini kita boleh menghasilkan rekabentuk berkualiti tinggi yang boleh dibaca pada permukaan peranti elektronik — maklumat yang diperlukan supaya ia boleh berfungsi.
Sebuah etchant digunakan semasa proses photoresist etch back. Apabila etchant ini bertemu dengan bahan photoresist, ia akan memakan sebahagian lapisan luarnya di mana kita mahu simpan dan buang — corak kita. Ini berguna dalam kes bentuk yang mempunyai ketinggian yang berbeza seperti beberapa tahap. Ini membolehkan kita membina rekabentuk yang rumit yang diperlukan untuk teknologi moden.
Terdapat beberapa kelebihan utama dalam menggunakan proses etch back photoresist untuk aplikasi elektronik. Secara utama, ia mencipta kerja pola yang sangat tepat. Kebiasaannya, satu ralat dalam salah satu pola boleh menyebabkan masalah dalam cara suatu peranti beroperasi, oleh itu adalah penting bahawa langkah ini sangat tepat. Jika rekabentuknya sedikit keluar dari jalan, ia akan mengakibatkan peranti itu tidak berfungsi seperti yang dimaksudkan. Ralat-ralat ini dikurangkan oleh proses etch back photoresist yang menghasilkan ciri-ciri yang tepat dan tepat untuk dijalankan dalam wafer.
Bukan sahaja ini meningkatkan kejituan, tetapi ia juga memperbaiki sesuatu yang dipanggil nisbah aspek. Nisbah Aspek — Nisbah aspek adalah hubungan antara ketinggian dan lebar suatu objek. Jika kita membuang lapisan bahan photoresist di atas dengan teliti, kita boleh meningkatkan nisbah aspek tanpa merosakkan lapisan seterusnya. Perkembangan ini membuatnya lebih mudah untuk mencipta bentuk yang lebih kompleks yang diperlukan untuk membuat cip komputer generasi seterusnya dan peranti elektronik lainnya.
Pemprosesan Photoresist Downstream dalam Pengeluaran Peranti Elektronik Ini memudahkan pembolehpautan pelbagai peranti dalam sebuah cip komputer, atau mana-mana komponen elektronik lain. Ini menjadikan penciptaan reka bentuk yang halus dan kompleks menjadi mungkin, yang penting untuk berbagai operasi moden yang digunakan dalam teknologi moden. Inilah yang menjadikannya mampu melaksanakan tugas-tugas kompleks dan melakukan segala yang dapat kita raih dengan tangan kecil kita.
Terdapat cara untuk memastikan penggunaan optimum etch back photoresist bagi faedah maksimum. Pelapukan Berlapis PhotoresistPraktik biasa lain adalah menggunakan beberapa lapisan pelapukan photoresist. Dengan cara ini, kita membentuk lapisan yang lebih tebal yang mampu menahan proses serangan dan pembersihan dengan bahan kimia. Selain itu, perbezaan ketebalan photoresist boleh menghasilkan kecondongan lembut dalam pola. Ini pada gilirannya boleh meningkatkan nisbah aspek pola akhir, tetapi tidak terhad kepada hanya mempercepatkan atau mengompres kecondongan pola sahaja.
Untuk pembangunan cip komputer canggih dan komponen berkaitan, teknik yang dipanggil photoresist etch back ini sangat kritikal. Proses ini juga membolehkan pola yang lebih kecil dan lebih rumit dibuat di atas permukaan cip. Pembinaan litar mikro yang diperlukan oleh cip mendapat banyak bantuan daripada sejauh mana rekabentuk ini mesti menjadi rumit. Dan dengan evolusi teknologi, merancang rekabentuk seperti ini menjadi semakin penting.
Minder Hightech terdiri daripada kumpulan pakar berpendidikan tinggi, jurutera berpengalaman dan kakitangan, dengan kemahiran dan pengetahuan profesional yang mengagumkan. Sehingga hari ini, produk-produk brand kami telah pergi ke negara-negara industri utama di seluruh dunia dan telah membantu pelanggan meningkatkan kecekapan, menurunkan kos, dan meningkatkan kualiti produk mereka.
Minder-Hightech adalah penjualan dan perkhidmatan Photoresist etch back untuk peralatan dalam industri produk elektronik dan semikonduktor. Kami mempunyai lebih daripada 16 tahun pengalaman dalam penjualan dan perkhidmatan peralatan. Syarikat ini berdedikasi untuk memberikan pelanggan penyelesaian peralatan mesin yang Luar Biasa, Dapat Dipercayai, dan Satu Henti.
Kami menawarkan pelbagai produk. Ini termasuk Photoresist etch back.
Minder-Hightech telah menjadi nama yang dicari dalam dunia perindustrian. Dengan tahun-tahun pengalaman kami dalam bidang penyelesaian mesin serta hubungan cemerlang kami dengan Photoresist etch back, kami telah mengembangkan "Minder-Pack" yang terfokus pada penyelesaian mesin untuk penyempakan dan mesin bernilai lainnya.
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
