Peralatan CVD untuk Bahan Grafena dan Nanotub Karbon / Peralatan semikonduktor , China Peralatan CVD untuk Bahan Grafena dan Nanotub Karbon / Peralatan semikonduktor Manufacturers, Suppliers, Factory

Penerangan Produk

Peralatan CVD untuk bahan graphene dan carbon nanotube

Peralatan ini terutamanya digunakan untuk proses pelapisan graphene dan bahan nano; Penyebaran, oksidasi dan annealing silikon polikristalin dan silicon carbide.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Spesifikasi

gaya struktur	Mengufuk, sistem satu paip atau paip berganda kawalan automatik
Sesuai dengan saiz wafer	2-8″
Kaedah penghantaran dan pemulihan wafer	Kapal kuartza cantilever automatik dorongan-dorongan, digabungkan dengan pengambilan dan pelepasan cip secara manual.
Suhu maksimum	1050℃
Suhu Operasi	400 ℃~850 ℃ penyelarasan terus-menerus
Kestabilan suhu satu titik	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Vakum had sistem	Lebih baik daripada 1Pa
kelajuan pompa	Masa pemompaan untuk vakum had < 15Min
julat tekanan kerja	5Pa hingga 1 × 105Pa penyelarasan terus-menerus
Pasukan kuasa	3 fasa 5-dawai 380V±10%，50Hz
Air Penyejuk	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Pembungkusan & Penghantaran

Profil Syarikat

Kami mempunyai 16 tahun pengalaman dalam penjualan peralatan. Kami boleh memberi anda penyelesaian profesional garis pakej Semikonduktor hadapan dan belakang satu henti dari China.