Peralatan CVD untuk Bahan Graphene dan Karbon Nanotube / Peralatan Semikonduktor , Peralatan CVD China untuk Bahan Graphene dan Karbon Nanotube / Peralatan Semikonduktor Pengilang, Pembekal, Kilang

Penerangan Produk

Peralatan CVD untuk bahan graphene dan nanotube karbon

Peralatan ini digunakan terutamanya untuk salutan proses bahan graphene dan nano; Resapan, pengoksidaan dan penyepuhlindapan silikon polihablur dan silikon karbida.

Peralatan CVD untuk Bahan Graphene dan Karbon Nanotube / butiran peralatan Semikonduktor

Peralatan CVD untuk Bahan Graphene dan Karbon Nanotube / kilang peralatan Semikonduktor

spesifikasi

gaya struktur	Kawalan automatik sistem mendatar, satu tiub atau berbilang tiub
Sesuaikan dengan saiz wafer	2-8 ″
Kaedah penghantaran dan pengambilan wafer	Perahu tolak kuarza julur automatik, digabungkan dengan pengambilan dan pelepasan cip manual.
suhu maksimum	1050 ℃
suhu bekerja	400 ℃~850 ℃ boleh laras secara berterusan
Kestabilan suhu satu titik	400℃~850℃≤±0.5℃/24j
Vakum had sistem	Lebih baik daripada 1Pa
kelajuan mengepam	Masa mengepam untuk mengehadkan vakum ＜ 15Min
Julat tekanan kerja	5Pa hingga 1 × 105Pa boleh dilaraskan secara berterusan
Bekalan kuasa	3 fasa 5-wayar 380V±10%，50Hz
air penyejuk	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Pembungkusan & Penghantaran

Profil Syarikat

Kami mempunyai 16 tahun pengalaman dalam penjualan peralatan. Kami boleh menyediakan penyelesaian profesional peralatan Talian Pakej Bahagian Hadapan dan Bahagian Belakang Semikonduktor Sehenti Sehenti dari China.