Penyingkiran Plasma kering ICP bagi mesin penyingkiran Photoresist / Plasma Photoresist (PR) untuk wafer semikonduktor, China Penyingkiran Plasma kering ICP Mesin penyingkiran Photoresist / Plasma Photoresist (PR) untuk wafer semikonduktor Pengeluar, Pembekal, Kilang

Penerangan Produk

ICP PLASMA Keluarkan Mesin Photoresist

BERABU
Penyingkiran polimer
Penyingkiran kering lapisan topeng keras
Penyingkiran photoresistance selepas implantasi ion
Penyingkiran rintangan foto dalam proses BAW/SAW
Pembersihan kering lapisan filem grafik anti reflektif
Penyingkiran sisa permukaan
Pembersihan permukaan selepas etsa
DESCUM

Mesin penyingkiran fotoresist plasma kering ICP sesuai untuk DESCUM (pra-rawatan, penyingkiran sisa fotoresist) Penyingkiran polimer (PI, BCB, PBO) Selepas implantasi ion, penyingkiran fotoresist, dll., rongga sesuai untuk sampel 8 inci (4 -6 inci serasi)

Penyingkiran Plasma kering ICP bagi mesin Photoresist / Plasma Photoresist penyingkiran (PR) untuk butiran wafer semikonduktor

Penyingkiran Plasma kering ICP bagi mesin penyingkiran Photoresist / Plasma Photoresist (PR) untuk pembekal wafer semikonduktor

Penyingkiran Plasma kering ICP bagi mesin penyingkiran Photoresist / Plasma Photoresist (PR) untuk pembuatan wafer semikonduktor

ICP kering Plasma Pembuangan Mesin Photoresist / Plasma Photoresist penyingkiran (PR) untuk kilang wafer semikonduktor

spesifikasi

PLASMA			RF	RF
Kuasa	ICP	1000w	1000w
Kuasa		BIAS	600w (pilihan)	600w (pilihan)
Skop berkenaan			4~8 inci	4~8 inci
Kiraan kepingan pemprosesan tunggal			1	2
Dimensi penampilan			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kawalan sistem			Sistem kawalan industri	Sistem kawalan industri
Tahap automasi			automatik	automatik