Pengalihan Plasma ICP Kering Pemindai / Mesin Pengalihan Plasma (PR) untuk wafer semikonduktor , China Pengalihan Plasma ICP Kering Pemindai / Mesin Pengalihan Plasma (PR) untuk wafer semikonduktor Manufacturers, Suppliers, Factory

Penerangan Produk

ICP PLASMA Buang Pelarut Foto Mesin

membasuh
Pembuangan polimer
Pembuangan kering lapisan hard mask
Pembuangan photoresist selepas pelaksanaan ion
Pembuangan photoresistance dalam proses BAW/SAW
Pembersihan kering lapisan filem grafik penolak pantulan
Pembuangan sisa permukaan
Pembersihan permukaan selepas pengecam
DESCUM

Mesin penghilang plasma fotoresistan ICP kering sesuai untuk DESCUM (penjagaan awal, pembuangan sisa photoresist) Penghilangan polimer (PI, BCB, PBO) Selepas pelaksanaan ion, pembuangan photoresist, dll., ruang sesuai untuk sampel 8 inci (4-6 inci serasi)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Spesifikasi

Plasma			rF	rF
Kuasa	ICP	1000W	1000W
Kuasa		BIAS	600w(pilihan)	600w(pilihan)
Bidang Kepantasan			4~8 inci	4~8 inci
Bilangan irisan pemprosesan tunggal			1	2
Dimensi penampilan			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
kawalan sistem			Sistem kawalan perindustrian	Sistem kawalan perindustrian
Tahap Automasi			Automatik	Automatik