Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas untuk semikonduktor kompaun SlC LED dan MEMS, Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas China untuk semikonduktor kompaun SlC LED dan MEMS Pengeluar, Pembekal, Kilang

Penerangan Produk

Pemprosesan Terma Pantas

Sediakan peralatan RTP yang boleh dipercayai untuk semikonduktor kompaun、SlC、LED dan MEMS

Aplikasi industri

* Pertumbuhan oksida, nitrida
* Aloi pantas sentuhan ohmik
* Penyepuhlindapan aloi silisid
* Refluks pengoksidaan
* Proses gallium arsenide
* Proses rawatan haba pantas yang lain

Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas untuk butiran kompaun SlC LED dan MEMS semikonduktor

Kelebihan Produk

1. Julat proses meliputi 200-1250 ℃
2. Sistem pengurusan medan suhu yang berkuasa
3. Algoritma RTP khusus
4. Alat penentukuran Wafer TC profesional

Ciri

* Pemanasan tiub lampu halogen inframerah, penyejukan menggunakan penyejukan udara;
* Kawalan suhu PlD untuk kuasa lampu, yang boleh mengawal kenaikan suhu dengan tepat, memastikan kebolehulangan yang baik dan keseragaman suhu;
* Salur masuk bahan ditetapkan pada permukaan WAFER untuk mengelakkan pengeluaran titik sejuk semasa proses penyepuhlindapan dan memastikan keseragaman suhu produk yang baik;
* Kedua-dua kaedah rawatan atmosfera dan vakum boleh dipilih, dengan pra-rawatan dan pembersihan badan;
* Dua set gas proses adalah standard dan boleh dikembangkan sehingga 6 set gas proses;
* Saiz maksimum sampel silikon kristal tunggal yang boleh diukur ialah 12 inci (300x300MM);
* Tiga langkah keselamatan perlindungan pembukaan suhu selamat, perlindungan kebenaran pembukaan pengawal suhu, dan perlindungan keselamatan berhenti kecemasan peralatan dilaksanakan sepenuhnya untuk memastikan keselamatan instrumen;

Kebetulan lengkung darjah 20

Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas untuk pembuatan semikonduktor kompaun SlC LED dan MEMS

20 lengkung untuk kawalan suhu pada 850 ℃

Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas untuk kilang SlC semikonduktor kompaun LED dan MEMS

Kebetulan 20 lengkung suhu purata

Kawalan suhu 1250 ℃

Sistem RTP Desktop Pemprosesan Terma Pantas untuk pembekal kompaun SlC LED dan MEMS semikonduktor

Kawalan suhu RTP 1000 ℃ proses

Proses 960 ℃, dikawal oleh pyrometer inframerah

Data proses LED

RTD Wafer ialah penderia suhu yang menggunakan teknik pemprosesan khas untuk membenamkan penderia suhu (RTD) pada lokasi tertentu pada permukaan wafer, membolehkan pengukuran masa nyata suhu permukaan pada wafer.
Pengukuran suhu sebenar di lokasi tertentu pada wafer dan taburan suhu keseluruhan wafer boleh diperolehi melalui RTD Wafer; Ia juga boleh digunakan untuk pemantauan berterusan perubahan suhu sementara pada wafer semasa proses rawatan haba.

Pandangan kilang

Profil Syarikat

16 tahun pengalaman dalam eksport peralatan！ Kami boleh menyediakan anda dengan Proses Semikonduktor Bahagian Hadapan / Bahagian Belakang sehenti dan penyelesaian Peralatan!