sumber PLASMA |
RF+BIAS |
||
Kuasa |
1000W |
1000W |
|
600W |
600W |
||
Skop berkenaan |
inci 4-8 |
||
Kiraan kepingan pemprosesan tunggal |
1 |
||
Dimensi penampilan |
1140mm x 1050mm x 1620mm |
||
Kawalan sistem |
Sistem kawalan industri |
||
Tahap automasi |
manual |
Keupayaan Perkakasan |
||
Masa aktif/Masa yang tersedia |
≧ 95% |
|
Purata masa untuk membersihkan (MTTC) |
≦6 jam |
|
Masa min untuk membaiki(MTTR) |
≦4 jam |
|
Masa min antara kegagalan(MTBF) |
≧350 jam |
|
Masa min antara pembantu(MTBA) |
≧24 jam |
|
Purata wafer antara pecah(MWBB) |
≦1 dalam 10,000 wafer |
|
Kawalan plat pemanasan |
50-250 ° |
Hak Cipta © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. Hak Cipta Terpelihara