Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Nederland

Home
Over Ons
MH-apparatuur
Het resultaat
Overzeese gebruikers
Video
Contacteer Ons

Verwijder fotoresist van het oppervlak van de wafer met behulp van plasma en verwijder fotoresist van de halfgeleider

2024-12-11 13:27:39
Verwijder fotoresist van het oppervlak van de wafer met behulp van plasma en verwijder fotoresist van de halfgeleider
Verwijder fotoresist van het oppervlak van de wafer met behulp van plasma en verwijder fotoresist van de halfgeleider

Minder-Hightech is een fabrikant van halfgeleiders. Halfgeleiders zijn essentiële componenten van veel van wat het moderne leven vormt, zoals mobiele telefoons en computers. Er zijn een paar stappen nodig om halfgeleiders te maken, maar de eerste stap is het maken van een patroon op een plat oppervlak dat bekendstaat als een wafer.

Om dit patroon te maken, deponeren we een speciaal materiaal op de wafer. Deze substantie staat bekend als een fotoresist. Nadat we de fotoresist hebben aangebracht, stellen we deze bloot aan licht. Onder het licht wordt een deel van de fotoresist uitgehard en sterk gemaakt. De delen in de schaduw blijven zacht en kunnen worden weggeveegd.

Nadat het gewenste patroon op de wafer is verkregen, moet de fotoresist worden verwijderd van de gebieden waar we verdere verwerking zullen uitvoeren. Dit is waar Plasma-reiniger komt letterlijk in het spel.

Plasma-gebaseerde methoden voor het verwijderen van fotoresist

Plasma is een gastoestand met een hoog energieniveau, vanwege een hoge elektrische lading die erop wordt toegepast. En dit geactiveerde gas is zeer nuttig voor het strippen van de fotoresist op het waferoppervlak. Door plasma kan de fotoresist bros worden en wordt het schoonmaken ervan een stuk eenvoudiger.

Voor het verwijderen van fotoresist beschikken wij over twee verschillende plasmatechnieken: droog etsen en verassen.

De droge ets: Bij deze techniek is het plasma dat daadwerkelijk interageert met de fotoresist. Het plasma reageert met de fotoresist waar het contact maakt. Deze reactie ontleedt de fotoresist en zet deze om in gas. Deze gasvormige substantie kan vervolgens van het waferoppervlak worden verwijderd, wat resulteert in het blootleggen van de gebieden die we schoon en beschikbaar voor progressie nodig hebben.

Ashing — Dit is een andere manier om het te doen, in deze methode wordt niet-reactief plasma voor de fotoresist gebruikt. Het plasma verbrijzelt de fotoresist in kleine, kleine stukjes. Vervolgens kunnen deze kleine stukjes van de wafer worden afgewassen. Deze aanpak is geschikt en beschermt de wafer terwijl de onnodige fotoresist wordt verwijderd.

Gebruik van reactief plasma voor het strippen van fotoresist

Plasma-oppervlaktebehandeling is een zeer krachtig hulpmiddel dat ons helpt om de taaiste fotoresist van de wafer te strippen. Plasma is op zichzelf al ongelooflijk, maar het beste is dat we het kunnen omzetten in een superselectief middel. Dat betekent dat het kan worden afgestemd om alleen specifiek te reageren met de fotoresist, niet met de andere materialen eronder.

Bijvoorbeeld: als we een patroon op de wafer hebben waarbij metaal onder de fotoresist is geplaatst, kunnen we een type plasma gebruiken dat alleen met de fotoresist reageert. Zo kunnen we de fotoresist wegetsen zonder het metaal eronder te beschadigen. Dit is erg belangrijk, omdat we alle onderdelen van de wafer nodig hebben om hun integriteit te behouden tijdens het proces.

De plasmatechniek voor het strippen van fotoresist

Minder-Hightech gebruikt nieuwe plasmatechnologie om de fotoresist van onze wafers te strippen. Hierdoor kunnen we foutloze halfgeleiders maken die van hoge kwaliteit zijn.

Snel, aanpasbaar aan uw behoeften Onze systemen zijn ontworpen om naadloos te integreren in uw workflow. Dit geeft aan dat we de fotoresist in korte tijd kunnen strippen. En omdat we snel zijn, voldoen we aan de volledige vraag van onze klanten en leveren we geweldige producten wanneer ze die nodig hebben.

Maar onze plasmasystemen zijn ook zeer nauwkeurig, naast hun efficiëntie. Wat deze precisie ons biedt, is de mogelijkheid om alleen de fotoresist zelf te verwijderen. Onze technologie voorkomt dat alle andere delen van de wafer beschadigd raken door ons proces, en dat kunnen we ons niet veroorloven. Deze methodische praktijk wordt des te essentiëler voor de kwaliteit van de halfgeleiders die we daar produceren.

Plasma-geïnduceerde fotoresistverwijdering op halfgeleiders

Kortom, plasma is een superkracht waarmee we op een zeer effectieve manier wat fotoresist van het waferoppervlak kunnen strippen. Wij, bij Minder-Hightech, passen de nieuwste en beste plasmatechnologie toe om exact nul-defecte kwaliteitshalfgeleiders te produceren. Als het gaat om plasmasystemen, worden onze oplossingen vervaardigd om snelheid en nauwkeurigheid in evenwicht te brengen, terwijl ze toch zeer efficiënt zijn. Dat betekent dat we kunnen voldoen aan de eisen van onze klanten en dat we zonder falen kwaliteitsproducten kunnen leveren. Dat hoopt het proces van halfgeleiders te verbeteren, aangezien we plasma verwijdering technologie die onze halfgeleiders zo goed mogelijk maakt, zodat alle soorten elektronische apparaten betrouwbare gadgets worden.

 


Inhoudsopgave

    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-45Aanvraag Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-46E-mail Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-47WhatsApp Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-48WeChat
    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-49
    Remove photoresist from surface of the wafer using Plasma and remove photoresist from the semiconduc-50Top