EN

Startpagina

Over ons

MH Equipment

Oplossing

Overzeese gebruikers

Video

Contacteer ons

Startpagina
Over ons

Over ons

Certificaat

Veelgestelde vragen
MH Equipment

De halfgeleiderindustrie

Mask Aligner

Wafer Grinder

Wafer Snijden/Scriven/Splijten

PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM

PR verwijdering RTP USC

Semicon Inspect

Laboratorium Halbleiderapparatuur

IC\/TO Verpakkinglijn

Dispenser

Wire Bonder

Die Bonder

IBGT Lazer

Bond Tester

Plasma Oppervlaktebehandeling

Plasma Schoonmaakmachine

Contacthoek Meetapparaat

Vacuüm Verpakkinglijn

Terminal Invoegmachine

Sleper en Polijstool

Ultrasoon Machine Oplossingen

Ultrasoon Metaal Weldaar

Ultrasoon Controlesysteem

Condensator Wikkermachine

Accupack Draadbindinglijn

Loden, Dispensen, Schroeven Robot systemen
Oplossing

Halveleiders FAB

IC/TO Verpakking

Plasma Oppervlakte Behandeling

Vacuüm Verpakkingsysteem

Halveleiders Detectie

Capacitor Winder

Terminalinvoeging

Accupack draadbonder
Overzeese gebruikers
Video

MH Company Video

Productie van halvegeleiders

IC/TO Package Video

Vacuüm Verpakkingsysteem

Plasma Oppervlaktebehandelingen Video

Wikkelmachine

Ultrageluidsverwelder

Slijper en Poetser Video

Loden, Dispensen, Schroeven Robot systemen
Contacteer ons

Home> PR verwijdering RTP USC

VRAAGEN DESCUM photoresist verwijdering ICP Droge Plasma Photoresist Removal Machine

Productomschrijving

ICP Droge Plasma Fotoresist Verwijdering Machine

ICP droge plasma fotoresist verwijdering machine wordt voornamelijk gebruikt voor het verwijderen van polymeren, ASHING, DESCUM, fotoresist verwijdering na ionenimplantatie en oppervlakte restanten verwijdering. De caviteit is geschikt voor 4-8 inch monsters, met 1-2 stukken verwerkt in een enkel proces.

Spoelen
Polymer verwijdering
Droge verwijdering van hardmaskelaag
Fotoresist verwijdering na ionenimplantatie
Fotowederstand verwijdering in BAW/SAW proces
Droge reiniging van anti-reflecterende grafische filmlaag
Oppervlakte-restverwijdering
Oppervlakte reinigen na etching
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

Specificatie

Plasma			RF	RF
Vermogen	ICP	1000W	1000W
Vermogen		BIAS	600w(option)	600w(option)
Toepassingsgebied			4~8寸	4~8寸
Enkelvoudige verwerkingssliceaantal			1	2
Uiterlijk			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Systeemcontrole			Industrieel Besturingssysteem	Industrieel Besturingssysteem
Automatiseringsniveau			automatisch	automatisch

Fabriek

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Productdetails

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

Verpakking & Levering

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

Bedrijfsprofiel

16 jaar ervaring in apparaatexport! We kunnen u een volledige oplossing bieden voor Semiconductor Front End Processen en Apparatuur!

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine supplier

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Meer producten

Navraag

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved