Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Vraag een offerte aan

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Startpagina
Over ons
MH Equipment
Oplossing
Overzeese gebruikers
Video
Contacteer ons
Home> PR verwijdering RTP USC
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine
  • Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine

Schone Halbleiterplaat na Etcheren ICP Experimenteel Plasma Verwijderen Fotoresist Machine

Vraag een gratis offerte aan
Productomschrijving

ICP Experimenteel Plasma Fotorezist Verwijderingsmachine

Polymer verwijdering, siliciumoxid of siliciumcarbide vetchen, oppervlaksschoonmaak na vetchen
ASHING Polymer verwijdering DESCUM Droge verwijdering van harde maskerlaag Fotoresistentie verwijdering na ionimplantatie Verwijdering van optische weerstand tussen media Fotoresistentie verwijdering in BAW/SAW proces Droge reiniging van anti-reflectieve grafische film laag Siliciumoxide of siliciumnitride etching Oppervlakrestverwijdering Oppervlakte reiniging na etching Siliconcarbide etching
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory
Specificatie
Plasmabron
RF+BIAS
Vermogen
1000W
1000W
600 W
600 W
Toepassingsgebied
4-8 inches
Enkelvoudige verwerkingssliceaantal
één
Uiterlijk
1140mm x 1050mm x 1620mm
Systeemcontrole
Industrieel Besturingssysteem
Automatiseringsniveau
Handmatig
Fabriek
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine manufacture
Verpakking & Levering
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Bedrijfsprofiel
16 jaar ervaring in apparaatexport! We kunnen u een volledige oplossing bieden voor Semiconductor Front End Processen en Apparatuur!
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine details
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine supplier
Clean Semiconductor Wafer after Etching ICP Experimental Plasma Removing Photoresist Machine factory

Meer producten

Navraag

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Privacybeleid

Navraag Email WhatsApp WeChat
Top
×

Neem contact op