EN

Home

Over Ons

MH-apparatuur

Het resultaat

Overzeese gebruikers

Video

Contacteer Ons

Home
Over Ons

Over Ons

Certificaat

FAQ
MH-apparatuur

Halfgeleiderindustrie

Maskeruitlijner

Wafelmolen

Snijzaag

PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM

PR-verwijdering RTP USC

Semicon Inspect

IC/TO-pakketlijn

Dispenser

Draadbinder

Die bonder

IBGT-lasser

Bondtester

Plasma-oppervlaktebehandeling

Plasma-reinigingsmachine

Contacthoektester

Vacuümverpakkingslijn

Terminal-invoegmachine

Grinder en polijstmachine

Ultrasone machineoplossingen

Ultrasoon metaallasser

Ultrasoon inspectiesysteem

Condensatorwikkelmachine

Draadverbindingslijn voor batterijpakket

Solderen Dispenseren Schroeven Robots
Het resultaat

Plasma-oppervlaktebehandelingen

Condensatorwikkelaar

Terminal-invoeging

Draadbinder voor batterijpakket

IC/TO-pakket

Halfgeleider

Front-end proces

Back-endproces
Overzeese gebruikers
Video

MH Bedrijfsvideo

Fabricage van halfgeleiderapparaten

IC/TO-pakketvideo

Vacuümverpakkingssysteem

Plasma-oppervlaktebehandelingen Video

Wikkelmachine

ultrasone Welder

Video over slijp- en polijstmachines

Solderen Dispenseren Schroeven Robots
Contacteer Ons

Home> PR-verwijdering RTP USC

Reinig de halfgeleiderwafel na het etsen van de ICP experimentele plasma-verwijderende fotoresistmachine Nederland

Productomschrijving

ICP experimentele plasma-fotoresistverwijderingsmachine

Polymeerverwijdering, etsen van siliciumoxide of siliciumcarbide, oppervlaktereiniging na het etsen

VERASHING Polymeerverwijdering DESCUM Droge verwijdering van harde maskerlaag Verwijdering van fotoresistentie na ionenimplantatie Verwijdering van optische weerstand tussen media Verwijdering van fotoresistentie in BAW/SAW-proces Chemische reiniging van antireflecterende grafische filmlaag Etsen van siliciumoxide of siliciumnitride Verwijdering van oppervlakteresten Oppervlaktereiniging na etsen Silicium carbide etsen

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachine verwijdert

Schone halfgeleiderwafel na het etsen van ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachinefabriek verwijdert

Reinig de halfgeleiderwafel na het etsen van ICP experimenteel plasma en verwijder de details van de fotoresistmachine

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma verwijderen fotoresist Machinevervaardiging

Schone halfgeleiderwafel na het etsen van ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachinefabriek verwijdert

Schone halfgeleiderwafel na het etsen van ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachinefabriek verwijdert

Specificaties

PLASMA-bron			RF+VOORSCHRIFTEN
Power	1000W	1000W
Power		600W	600W
Toepasselijk bereik			4 8-inch
Aantal verwerkingssegmenten			een
Uiterlijk afmetingen:			1140mm x 1050mm x 1620mm
Systeem controle			Industrieel controlesysteem
Automatiseringsniveau			Handbak

Fabriek

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachine verwijdert

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma verwijderen fotoresist Machinevervaardiging

Verpakking en levering

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachine verwijdert

Bedrijfsprofiel

16 jaar ervaring in de export van apparatuur! Wij kunnen u voorzien van een one-stop-oplossing voor halfgeleider front-endprocessen en apparatuur!

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachine verwijdert

Reinig de halfgeleiderwafel na het etsen van ICP experimenteel plasma en verwijder de details van de fotoresistmachine

Reinig de halfgeleiderwafel na het etsen van ICP experimenteel plasma en verwijder de details van de fotoresistmachine

Schone halfgeleiderwafel na het etsen ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachine verwijdert

Schone halfgeleiderwafel na het etsen van ICP Experimenteel plasma dat fotoresistmachinefabriek verwijdert

Meer Producten

Aanvraag

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd. Alle rechten voorbehouden