CVD-apparatuur voor graphene en koolstofnanobuisjesmaterialen / Halvegeleidersapparatuur , China CVD-apparatuur voor graphene en koolstofnanobuisjesmaterialen / Halvegeleidersapparatuur Manufacturers, Suppliers, Factory

Productomschrijving

CVD-apparatuur voor graphene en koolstofnanobuisjesmaterialen

De apparatuur wordt voornamelijk gebruikt voor het procescoating van graphene en nanomaterialen; Diffusie, oxidatie en annealing van polykristallijne silicium en siliconcarbide.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specificatie

structuurtype	Horizontaal, eenpijp of meervoudig pijpsysteem automatische controle
Aangepast aan plaatgrootte	2-8"
Plaatbezorging en -ophalingmethode	Automatische kantelschildduiker met kwartsknop-op-en-afboot, gecombineerd met handmatig chipnemen en -loslaten.
Maximale temperatuur	1050℃
Werktemperatuur	400 ℃~850 ℃ continu instelbaar
Eenpunts temperatuurstabiliteit	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Systeem limietvacuüm	Beter dan 1Pa
Pompsnelheid	Pomptijd naar limietvacuüm < 15Min
werkdrukbereik	5Pa naar 1 × 105Pa continu instelbaar
Stroomvoorziening	3-fase 5-draad 380V±10%, 50Hz
Koelwater	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Verpakking & Levering

Bedrijfsprofiel

We hebben 16 jaar ervaring in apparaatverkoop. We kunnen u een professionele oplossing bieden voor een volledige Semiconductor Front-end en Back-end Pakketlijn vanuit China.