$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$

$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$
$ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven$

ICP droge Plasma Verwijdering van Photoresist \/ Plasma Photoresist verwijdering (PR) machine voor semiconductor schijven

Productomschrijving

ICP PLASMA Verwijder Photoresist Machine

spoelen
Polymer verwijdering
Droge verwijdering van hardmaskelaag
Fotoresist verwijdering na ionenimplantatie
Fotowederstand verwijdering in BAW/SAW proces
Droge reiniging van anti-reflecterende grafische filmlaag
Oppervlakte-restverwijdering
Oppervlakte reinigen na etching
DESCUM

ICP-droge plasma fotoresist verwijderingsmachine is geschikt voor DESCUM (voorbehandeling, verwijdering van fotoresistresten) Polymer verwijdering (PI, BCB, PBO) Na ionenimplantatie, fotoresist verwijdering, enz., de ruimte is geschikt voor 8-duims monsters (4-6 duim compatibel)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Specificatie

Plasma			rF	rF
Vermogen	ICP	1000W	1000W
Vermogen		BIAS	600w(option)	600w(option)
Toepassingsgebied			4~8 inch	4~8 inch
Enkelvoudige verwerkingssliceaantal			1	2
Uiterlijk			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
systeemcontrole			Industrieel Besturingssysteem	Industrieel Besturingssysteem
Automatiseringsniveau			Automatisch	Automatisch