Guangzhou Minder-Hightech Co., Ltd.

Home
Over Ons
MH-apparatuur
Het resultaat
Overzeese gebruikers
Video
Contacteer Ons
product mcxj mls8 maskless lithography system-42
Home> Maskeruitlijner
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem
  • MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem

MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem Nederland

Productomschrijving
Monster:
MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem fabricage
Structuurschema van de apparatuur
Leverancier van MCXJ-MLS8 Maskless lithografiesysteem
Leverancier van MCXJ-MLS8 Maskless lithografiesysteem
Specificaties
Blootstelling gastheerstructuurdiagram
structuur
illustreren
Het aanrecht blootleggen
Blootstellingsgebied: aanrecht, substraatplaatsingsgebied
Optisch systeem
Vormgebied met laseremissie
Milieuzorgsysteem
Controleer de interne temperatuur en positieve druk van het apparaat
Platformsysteem
Regelt de beweging van de belichtingstafel om de werking van het belichtingspad te voltooien
Controle systeem
Besturingssysteem van de gehele apparatuur
Opmerking: Omdat de upgrade van de machine het werkelijke uiterlijk kan veranderen, is het specifieke onderwerp van het daadwerkelijke product.
Nr.
Milieu
Vereisen
1
Lichtbronomgeving
Geel licht
2
Temperatuur zone(s)
22 ℃ ± 2 ℃
3
Vochtigheid
50% ± 10%
4
Zindelijkheid
1000
5
CDA
0.6 ± 0.1 MPa, 200 LPM, droge, schone lucht
6
Stroomvoorziening
220 ~ 240 V, 50/60 Hz, 2.5 kW; de aardedraad moet geaard zijn.
7
koelwater
Temp.: 10℃ ~ 20℃
Druk: 0.3 MPa ~ 0.5 MPa
Stroomsnelheid: 20L/min
Drukverschil: 0.3 MPa
Kaliber overnemen: Rc3/8
8
Venue
niveau: ±3 mm/3000 mm schudden: VC-B-lager: 750 kg/㎡
10
Internet
Eén netwerkpoort
11
size machine
1300 * 1100 * 2100mm
12
Gewicht van het apparaat
1500 kg
Nr.
Project
Spec.
Opmerking
1
Resolutie
0.6um/of ander vereiste
AZ703, AZ1350
2
CDU
±10%@1um
3
Substraatdikte
0.2 mm ~ 4 mm
4
Nauwkeurigheid van het datumraster
60nm
5
Bedekking
± 500nm
130mmx130mm
6
Stiknauwkeurigheid
± 200nm
AZ703
7
MAX belichtingsgrootte
190X190mm
8
Doorvoer
≥300 mm2/min
≤50mj/cm2;
9
lichtbron
LD 375nm
10
lichte kracht
6W
11
Energie-uniformiteit
≥ 95%
12
licht leven
10000hr
Verpakking en levering
Leverancier van MCXJ-MLS8 Maskless lithografiesysteem
MCXJ-MLS8 Maskerloos lithografiesysteem fabricage
Bedrijfsprofiel
Wij hebben 16 jaar ervaring in de verkoop van apparatuur. Wij kunnen u voorzien van de professionele oplossing One-stop Semiconductor Front-end en Back-end Package Line-apparatuur uit China.

Aanvraag

product mcxj mls8 maskless lithography system-61Aanvraag product mcxj mls8 maskless lithography system-62E-mail product mcxj mls8 maskless lithography system-63WhatsApp product mcxj mls8 maskless lithography system-64 WeChat
product mcxj mls8 maskless lithography system-65
product mcxj mls8 maskless lithography system-66Top
×

Neem contact op