MDXN-31D2 Mask Aligner , China MDXN-31D2 Mask Aligner Manufacturers, Suppliers, Factory

Productomschrijving

Voornamelijk gebruikt voor de ontwikkeling en productie van kleine en mediumgrote geïntegreerde schakelingen, halvelektroonische componenten, optoelectronica apparaten, oppervlaktegeluidsgolvenapparaten, dunne filmcircuits en kracht-elektronica apparaten. Deze machine is een dubbelzijdige contactexposemachine, met een speciaal ontworpen herdrukmechanisme dat substraatwedgesfouten kan elimineren en goede contacten tussen de boven- en ondermaskerplaten aan beide zijden van het substraat kan waarborgen, waardoor de exposiekwaliteit aan beide zijden van het substraat wordt verzekerd.

Specificatie

Belangrijkste technische parameters

1. Energievereisten voor apparatuur: Hoofdstroomvoorziening: 220V, 50HZ, stroomverbruik ≤1.5KW;
2. Uquip met een vacuümpomp met een voedingsspanning van 220V;
3. Afmetingen en gewicht: Afmetingen: 1200( lengte)×720(breedte)×1500(hoogte). Gewicht ≤170kg;
4. Plaats de machine op een speciale werkbank;
5. Exposetype: contacttype, plaatuitlijning, dubbelzijdige exposeering;
6. Exposeeroppervlak: φ100mm;
7. Onregelmatige exposeering: ≤±3%;
8. Exposeersterkte: ≥5mw/cm2;
9.Exposureresolutie: 2μm;
10.Exposemode: Dubbele zijdelijke gelijktijdige exposé;
11.Uitlijningsbereik: X: ±5mm Y:±5mm;
12.Graveerprecisie: 2μm;
13.Rotatiebereik: Q-richting rotatieaanpassing≤±5°;
14.Microscopisch systeem: dubbel veld van gezicht CCD-systeem, objectief 1.6X~10X, computer beeldverwerkingsysteem, 19"LCD-beeldscherm;
15.Maskerformaat: In staat om vacuümadsorptie uit te voeren

Verpakking & Levering

Bedrijfsprofiel

We hebben 16 jaar ervaring in apparaatverkoop. We kunnen u een professionele oplossing bieden voor een volledige Semiconductor Front-end en Back-end Pakketlijn vanuit China.