Artikel |
MD150-RIE |
MD200-RIE |
MD200C-RIE |
||
Productgrootte |
≤6 inch |
≤8 inch |
≤8 inch |
||
RF krachtbron |
0-300W/500W/1000W Aanpasbaar, automatisch matchen |
||||
Moleculaire pomp |
-\/620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom |
Antiseptisch620(L\/s)\/1300(L\/s)\/Custom |
|||
Foreline pomp |
Mechanische pomp\/droge pomp |
Droge pomp |
|||
Procesdruk |
Ongecontroleerde druk\/0-1Torr gecontroleerde druk |
||||
Gas type |
H\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/SF6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Custom (Tot maximaal 9 kanalen, geen corrosieve & giftige gassen) |
H2\/CH4\/O2\/N2\/Ar\/F6\/CF4\/ CHF3\/C4F8\/NF3\/Cl2\/BCl3\/HBr(Tot maximaal 9 kanalen) |
|||
gasbereik |
0~5sccm\/50sccm\/100sccm\/200sccm\/300sccm\/500sccm\/custom |
||||
LoadLock |
Ja\/Nee |
Ja |
|||
Voorbeeld temperatuur controle |
10°C~Kamertemperatuur/-30°C~100°C/Aangepast |
-30°C~100°C /Aangepast |
|||
Rug helium koeling |
Ja\/Nee |
Ja |
|||
Proces holte bekleding |
Ja\/Nee |
Ja |
|||
Holte wand temperatuur controle |
Nee/Kamertemperatuur~60/120°C |
Kamertemperatuur-60/120°C |
|||
Besturingssysteem |
Automatisch/aangepast |
||||
Graveermateriaal |
Siliciumgebaseerd: Si/SiO2/SiNx. IV-IV: SiC Magnetische materialen/alloys Metaalmateriaal: Ni/Cr/Al/Au. Organisch materiaal: PR/PMMA/HDMS/Organische film. |
Siliciumgebaseerd: Si/SiO2/SiNx. III-V (notitie 3): InP/GaAs/GaN. IV-IV: SiC II-VI (notitie 3): CdTe. Magnetische materialen/alloys Metaalmateriaal: Ni/Cr/Al/Au. Organische stof: PR/PMMA/HDMS /organische film. |
Geschikt voor microgolven apparaten, power apparaten, enz.
De Minder-High-tech Reactive Ion Etching (RIE) machine is een topstuk technologie dat in staat is om verschillende soorten materialen met buitengewone precisie te graveren en te analyseren. Deze machine is ontworpen voor gebruik in verschillende industrieën waar microfabricage of gravuren regelmatig vereist is. Het is gemaakt van hoge-kwaliteit materialen die het robuust, betrouwbaar en in staat doen zijn om uitstekende resultaten te produceren.
Uitrusting met een RF plasma generator is effectief. Het RIE systeem gebruikt een koppeling is inductief om plasma op te wekken uit de voedingsstof. Deze techniek creëert een hoogdichte plasma dat de graveersnelheid verbonden aan het product verhoogt. Het graveerproces van de RIE machine is effectief, nauwkeurig en zeer controleerbaar, waardoor een specifieke diepte kan worden bereikt. Deze eigenschap maakt het uniek en een goede keuze voor onderzoek of industriële werkzaamheden.
De machine heeft een breed scala aan toepassingen, waaronder micro-elektronica, MEMS-fabricage en halvegeleiderfabricage. Deze machine speelt een belangrijke rol bij het etchen en micromachining van halvegeleidersmaterialen zoals silicium, galliumarsenide en germanium in de halvegeleiderindustrie. Het Minder-High-tech RIE-apparaat wordt bovendien gebruikt in de MEMS-industrie voor de fabricage van zowel zachte als harde materialen zoals polyimide, siliciumdioxide en siliciumnitride. Daarnaast is het beschikbaar voor foutanalyse in industrieën gerelateerd aan elektronische producten en diensten.
Inclusief functies die variërend zijn en het gebruik eenvoudig maken. Het is een gebruikersvriendelijke software die de operateur volledige controle biedt over de etchparameters die in het apparaat worden gebruikt. De machine-instellingen worden opgeslagen in het interne geheugen en kunnen meer dan 100 sets van instellingen opslaan. Het heeft een touchscreen waarmee de operateur parameters zoals gasstroom, vermogen dichtheid en druk kan instellen. De Minder-High-tech RIE machine heeft ook een temperatuurcontrole-functie die ervoor zorgt dat materialen op de juiste temperatuur worden geëtst en schade aan hen voorkomt.
Perfect voor bedrijven die een betrouwbare en efficiënte machine nodigen die nauwkeurige en precieze resultaten kan leveren. Dit apparaat is ontworpen met topnotch technologie en een zeer hoge niveau. Zijn veerspanning en gebruikersvriendelijke kenmerken maken het een zeer goede keuze voor onderzoeks- en industrieapplicaties in verschillende sectoren.
Het heeft ook een efficiënt falingsanalyse systeem dat de machine in staat stelt om mechanische problemen zo snel mogelijk te detecteren en te corrigeren. Dit systeem zorgt ervoor dat de RIE machine gedurende haar hele levenscyclus hoge kwaliteit en betrouwbaarheid behoudt. Voor elke industrie die precieze en efficiënte etching of microfabricatie vereist, is de Minder-High-tech RIE machine de perfecte oplossing.
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved