Plasmabron
|
RF
|
||
Vermogen
|
ICP
|
_
|
|
BIAS
|
1000W(option)
|
||
Toepassingsgebied
|
4~8 inch
|
||
Enkelvoudige verwerkingssliceaantal
|
1
|
||
Uiterlijk
|
850mmx900mmx1850mm
|
||
Systeemcontrole
|
PLC's
|
||
Automatiseringsniveau
|
Handmatig
|
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved