Halfgeleiderwafer Plasma Fotoresist Verwijderingsmachine PR Verwijderingsapparatuur Serieus, China Halfgeleiderwafer Plasma Fotoresist Verwijderingsmachine PR Verwijderingsapparatuur Serieus Fabrikanten, Leveranciers, Fabriek

Productomschrijving

BATCH-PLASMA Machine voor het verwijderen van halfgeleiderwafers

De verwerkingstemperatuur is laag en kan het plasma onder hoge druk houden

DESCUM Waferreiniging Natte verwijdering van fotoresist Verwijdering van oppervlakteresten Verwijderen van fotoresistresten na belichting en ontwikkeling

Halfgeleider Wafer Plasma Fotoresist Verwijdering Machine PR Verwijderingsapparatuur Serieuze leverancier

Halfgeleiderwafelplasma Fotoresistverwijderingsmachine PR-verwijderingsapparatuur Serieuze fabricage

Halfgeleider Wafer Plasma Fotoresist Verwijdering Machine PR Verwijderingsapparatuur Serieuze details

Halfgeleiderwafelplasma Fotoresistverwijderingsmachine PR-verwijderingsapparatuur Serieuze fabriek

Specificaties

PLASMA-bron	RF	magnetron
Power	1000w	1250w
Toepasselijk bereik	4 ~ 8 inch	4~8寸
Aantal verwerkingssegmenten	4~6 inch=50 stuk/8inch=25 stuk	4~6 inch=50 stuk/8 inch=25 stuk
Uiterlijk afmetingen:	1250x1630x1900mm	1250x1630x1900mm
Systeem controle	PC	PC
Automatiseringsniveau	automobiel	automobiel

Fabriek

Productdetails

Verpakking en levering

Bedrijfsprofiel

16 jaar ervaring in de export van apparatuur! Wij kunnen u voorzien van een alles-in-één oplossing voor halfgeleider front-/back-endprocessen en apparatuur!