Justermaskin\/Justeringmaskin fotolitografi , China Justermaskin\/Justeringmaskin fotolitografi Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

Mask Justerer Litografi Maskin

Mask Justerer brukes hovedsakelig i utviklingen og produksjonen av små og mellemstore integrerte kretser, halvlederkomponenter, optoelektroniske enheter, overflate akustisk bølge-enheter, tynefilm-kretser og kraftelektroniske enheter
Mask Aligner Kjent også som: mask aligner exposure machine, exposure system, lithography system, osv., er det kjernedriftsmidlet for å lage chips. Den bruker en teknologi lignende fotoutskrift for å trykke fine mønstre fra masken på silisiumplaten ved lysutssetting.
Hovedsaklig sammensatt av: høy-nøyaktighets justeringsbord, binokular delt synsfelt vertikalt mikroskop, binokular delt synsfelt horisontalt mikroskop, digital kamera, datamaskin bildehukommelsessystem, multipunkt lyskilde (fly eye) utssettingshode, PLC kontrollsistem, pneumatisk system, vakuum system, direktekoblet vakuum pump, sekundær motvibrasjonsbord og tilbehørskasse.

Aligner /Alignment Machine photolithography manufacture

Aligner /Alignment Machine photolithography factory

Karakteristikk

1. Høy likeformlighet fly-eye utssettingshode / luftflytning jemneproblem / pålitelig vakuumklamping utssetting. høy oppløsning.
2. Justeringsmetode ved hjelp av mask for stabil substrateføring, som sikrer konsekvensen av veiledningsgravitasjonen og kraften.
3. Bruker kløfteløs rett leder, høy nøyaktighet, rask fart.
4. Alle modeller egnet til å jobbe med alle standard fotoresister, som AZ, Shipley, SU 8.
5. Alle modeller Overføring av mønsterkvalitet av systemet til substarten etter 5 maskeapplikasjoner bør være den samme som mønsterkvaliteten etter første maskeapplikasjon.
6. Eksponeringstid justerbar mellom 1 sekund og 1 time. Justeringsnøyaktighet 1 µm

Aligner /Alignment Machine photolithography supplier

Aligner /Alignment Machine photolithography details

Spesifikasjon

Modell	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Eksponerings type	én side			Dubbel sidejustering og dubbel sideeksponering
Eksponeringsmodus	Kontakt hard, blød og ikke-kontakt nærhet
Antall eksponeringshoder	1 eksponeringshode			2 eksponeringshoder
Type lyskilde	GCQ350 kuleformet kvartsmerkurlamp						LED UV-eksponeringshode
Kjølemetode	Luftkjøling
Eksponeringsområde	Φ100mm	110×110mm	Φ100mm		150mm×150mm
Eksponeringsmodus	Kompatibel med kontakthard, bløt
Ujevne utsending	Φ100mm<±3%<>	≤±3%
Utsendingsoppløsning	2μm	1 μm
Stråleintensitet (365 nm)	≥6mw/cm²	≤40mw/cm2	≥5mw/cm2		0～30mw/cm2
Stråleujevnhet	≤±4%	≤±3%
UV-lys maksimal avvikningsvinkel	4°	3°
Belysningsområde	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Fram og bak ≥ Φ115mm
Kjøttfeil kompensasjonsmodus	Kuleformig automatisk kompensasjon			Automatisk eliminering		3-punkt automatisk kompensasjon
Reisen til X- og Y-aksene	±4mm	±5mm	±4mm		±5 mm
Reisen til θ	±3°	≤5°	≤±5º		≤0.5°
Oppløsning for XYZ-substratforskyvning	0.5µm	0.3µm	0.3µm		0.01µm
Mikroskop system	To enkeltbarelle mikroskoper / To CCD-kameraer
Skjermstørrelse	15 tommer
Bildeoppløsningssystem	2µm	1.5µm	1.5µm		1.5µm
Masken og substratmålemesse avstand	0.5 µm	0.3 µm
Diagonaldimensjon av CCD-måleflate	1/3,（6mm）						40mm～110mm
Innstillingstabellstørrelse	≤ Firkant 5*5 tommer (Tilpassede spesifikasjoner)
Substratstørrelse	Φ 100mm eller 100*100mm firkant	60*49.5mm firkant	2”-4”		1"x1"-5"x5"
Substratetykkelse	1-3mm	≤5 mm	1-3mm		≤5 mm
vakuumpumpe	Fettfri avtrekk (-0.07～－0.08MPα)
Ren komprimert luft	≥0.4MPα
Strømforsyning	AC 220V±10% 50HZ 1.5KW
Klasse rom standard	Klasse 100
Klasse rom temperatur	25℃±2℃
Relativ fuktighet i rens rom	≤60%
Vibrasjonsamplitude i rens rom	≤4μm
Utstyrsstørrelse	1300 ×720×1600mm				1500 ×800×1600mm
Vekt av utstyr	200KG				280 kg

Framstilling av et høyoppløsningsjusteringssystem krever nesten perfekt nøyaktig mekanisk prosess. En annen teknisk utfordring ved justeringssystemet er justeringsmikroskopet. For å forbedre synsfeltet til mikroskopet bruker mange høyendemaskinister LED-belysning. Det finnes to sett med justeringssystemer med fokusfunksjon. Dette består hovedsakelig av to øynepunkter og to synsfelter rettet mot kroppen på mikroskopet, ett par øyeskinner og ett par objektiver (maskinister gir vanligvis øyeskinner og objektiver med forskjellig forstørrelse til brukerne). Funksjonen til CCD-justeringssystemet er å forstørre justeringsmerkene på maske og prøve og bilede dem på monitoren.

Arbeidsbordet er en nøkkelkomponent i litografi maskinen, som består av det generelle bevegelsesbordet for maske og prøve (XY), det relative bevegelsesbordet for maske og prøve (XY), roteringsbordet, nivelleringssystemet for prøven, fokuseringssystemet for prøven, vaferskjermen, maskeklampen og uttrekkskjermen for maske. Nivelleringssystemet består av en kulebase og en halvkule. Under nivelleringen brukes først trykkluft på kulenebase og halvkule, deretter beveger kulenebase, halvkule og prøve oppover gjennom fokushjulet, slik at prøven kan nivleres mot masken, og deretter bytter den to-posisjons treveis elektromagnetiske ventilen luft til vakuum for å låse kulenebase og halvkule for å opprettholde nivellert tilstand.

Minder-Hightech tilbyr deg en avansert teknologi for fotolithografi gjennom Aligner/Alignment Maskin.

Kamp du med utilstrekkelig nøyaktighet ved utskrift av kretser på elektroniske produkter? Med Minder-Hightech's Aligner/Alignment Maskin kan du være trygg på at du oppnår høy nivå precision i produksjonen av utskrevne kretser.

Med dette revolusjonerende produktet kan du enkelt overføre et høyoppløsningsbilde på et produkt ved hjelp av fotolitografi. Denne maskinen garanterer nøyaktighet gjennom et operativsystem som justerer materialet til bildet.

Etter at bildene er utskrevet og lastet opp, beregner maskinen mengden utssetting som kreves og hvordan materialet justeres i forhold til bildene. Denne beregningen utføres ved å bruke den nyeste datamaskinvaren som kan oppdateres for å holde tritt med teknologisk utvikling i produksjonsnæringen.

Det vil gjøre det mulig for deg å lage et bredt utvalg, inkludert mikrosirkunder, radiobølge (RF) sirkunder og innebygde sirkunder. Enheten kan oppnå den beste gravdybden, sporbredden og lag-til-lag justeringen ved å legge til ulike komplementære prosedyrer, som kjemisk gravning og elektroplatering.

Fordelen med vårt produkt ligger i dets evne til å produsere høy nøyaktighet i justering, noe som garanterer at mønstre er plassert med stor presisjon på materialet. Du kan enkelt skrive ut mange kompliserte design uten noen deformasjoner.

Det er brukervennlig, kompakt og effektivt, hvilket gjør det egnet for ulike produksjonsanlegg eller virksomhetsstørrelse. I tillegg kommer vår enhet med manuell vedlikehold og plasseringstraining med vårt team av teknisk supportpersonal.

Minder-Hightech’s Aligner/Alignment Machine bruker fotolitografi-teknologi for å hjelpe deg å oppnå de beste resultatene ved å trykke dine kretser. Opplev et nytt nivå av teknologi som tilbyr høy nøyaktighet og presisjon som ikke kan matches av tradisjonelle trykkmetoder. Minder-Hightech’s Aligner/Alignment Machine er det som produktionsbedriften din trenger for å holde et skritt foran konkurransen. Ta kontakt med oss i dag for å nyte fordelsene ved den beste Aligner/Alignment Machine-teknologien på markedet.