Aligner / Alignment Machine fotolitografi , Kina Aligner / Alignment Machine fotolitografi Produsenter, leverandører, fabrikk

Produktbeskrivelse

Mask Aligner litografimaskin

Mask Aligner brukes hovedsakelig i utvikling og produksjon av små og mellomstore integrerte kretser, halvlederkomponenter, optoelektroniske enheter, akustiske overflatebølgeenheter, tynnfilmkretser og kraftelektroniske enheter
Mask Aligner Også kjent som: mask alignment eksponeringsmaskin, eksponeringssystem, litografisystem, etc., er kjerneutstyret for produksjon av brikker. Den bruker teknologien som ligner på fotoutskrift for å skrive ut de fine mønstrene på masken på silisiumplaten ved lyseksponering
Hovedsakelig sammensatt av: arbeidsbenk for justering med høy presisjon, vertikalt mikroskop med kikkertseparert synsfelt, horisontalt mikroskop med kikkertseparert synsfelt, digitalkamera, minnesystem for databehandling, eksponeringshode med flere punkter (flyøye), PLS-kontrollsystem, pneumatisk system, vakuumsystem, direktekoblet vakuumpumpe, sekundær antivibrasjonsarbeidsbenk og tilbehørsboks

Aligner / Alignment Machine fotolitografi produksjon

Aligner / Alignment Machine fotolitografi fabrikk

Karakteristisk

1. Høy ensartet flueøyeeksponeringshode / luftflotasjonsnivelleringsmekanisme / pålitelig vakuumklemmingseksponering. høy oppløsning.
2. Justering metoden ved maske holde stabil og substrat fôring, som sørger for konsistensen av guide tyngdekraften og kraften.
3. Bruk av gapfri rett guide, høy presisjon, høy hastighet.
4. Alle modeller som er egnet til å fungere med alle standard fotoresists. slik som AZ, Shipley, SU 8.
5. Alle modeller Mønsterkvaliteten som overføres av systemet til substrat 5 maskeapplikasjoner skal være den samme som mønsterkvaliteten etter påføring av den første masken.
6. Eksponeringstid justerbar mellom 1 sekund og 1 time. Justeringsnøyaktighet 1 µm

Leverandør av Aligner / Alignment Machine fotolitografi

Aligner / Alignment Machine fotolitografi detaljer

Spesifikasjon

Modell	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Eksponeringstype	En side			Dobbel sidejustering og dobbel sideeksponering
Eksponeringsmodus	Kontakt hard, myk og berøringsfri nærhet
Eksponeringshodemengde	1 Eksponeringshode			2 Eksponeringshode
Type lyskilde	GCQ350 sfærisk kvikksølvlampe						LED UV eksponeringshode
kjølemetode	luftkjøling
Eksponeringsområde	Φ100mm	110 x 110mm	Φ100mm		150mm × 150mm
Eksponeringsmodus	Kompatibel med kontakt hard, myk
Eksponeringsujevnheter	Φ100mm<±3%<>	≤ ± 3%
Eksponeringsoppløsning	2μm	1 mikrometer
Stråleintensitet (365 nm)	≥6mw/cm²	≤40mw/cm2	≥5mw/cm2		0~30mw/cm2
Stråleinhomogenitet	≤ ± 4%	≤ ± 3%
UV-lys maksimal avviksvinkel	4 °	3 °
Lysområde	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Foran og bak ≥ Φ115mm
Kilefeilkompensasjonsmodus	Halvkuleformet automatisk kompensasjon			Automatisk eliminering		3 punkts automatisk kompensasjon
Vandringen til X- og Y-aksene	± 4mm	± 5mm	± 4mm		± 5 mm
Reisen til θ	± 3 °	≤5 °	≤±5º		≤0.5 °
XYZ substratforskyvningsoppløsning	0.5μm	0.3μm	0.3μm		0.01μm
Mikroskopsystem	To enkeltløpsmikroskoper/To CCD-kameraer
Skjermstørrelse	15 inches
Bildesystemoppløsning	2μm	1.5μm	1.5μm		1.5μm
Maske og substratmåleavstand	0.5 μm	0.3 μm
Diagonal dimensjon av CCD-måloverflaten	1/3, (6 mm)						40 mm–110 mm
Dekkebordstørrelse	≤ Square 5*5 tommer (tilpassbare spesifikasjoner)
Substratstørrelse	Φ 100mm eller 100*100mm kvadrat	60*49.5 mm kvadrat	2” -4”		1"x1"-5"x5"
Substrattykkelse	1-3mm	≤5 mm	1-3mm		≤5 mm
Støvsuger pumpe	Oljefri mute（-0.07～－0.08MPα）
Rengjør trykkluft	≥0.4 MPα
Strømforsyning	AC 220V±10% 50HZ 1.5KW
Renromsklasse	klasse 100
Ren romtemperatur	25 ℃ ± 2 ℃
Relativ fuktighet i rent rom	≤60%
Vibrasjonsamplitude for rent rom	≤4μm
Utstyrsstørrelse	1300 × 720 × 1600mm				1500 × 800 × 1600mm
Utstyrsvekt	200kg				280kg

Produksjon av høypresisjonsjusteringssystem må ha nesten perfekt presisjonsmekanisk prosess. Et annet teknisk problem med justeringssystemet er justeringsmikroskop. For å forbedre synsfeltet til mikroskop bruker mange high-end litografimaskiner LED-belysning. Det er to sett med justeringssystem med fokuseringsfunksjon. Den er hovedsakelig sammensatt av to øyne og to synsfelt som sikter mot hoveddelen av mikroskopet, ett par okular og ett par objektivlinse (litografimaskin gir vanligvis okular og objektivlinse med forskjellig forstørrelse for brukere). Funksjonen til CCD-justeringssystem er å forstørre justeringsmerkene til masken og prøven og avbilde dem på skjermen.

Arbeidsstykketrinnet er en nøkkeldel av litografimaskinen, som er sammensatt av maskeprøvens overordnede bevegelsesstadium (XY), maskeprøvens relative bevegelsesstadium (XY), rotasjonstrinnet, prøvenivelleringsmekanismen, prøvefokuseringsmekanismen , wafer scenen, maskeklemmen og den uttrekkbare maske scenen. Prøveutjevningsmekanismen omfatter et kulesete og en halvkule. I utjevningsprosessen påføres først trykkluft på kulesetet og halvkulen, og deretter beveger kulesetet, halvkulen og prøvestykket seg oppover gjennom det fokuserende håndhjulet, slik at prøvestykket kan jevnes mot masken, og deretter treveis magnetventilen med to posisjoner bytter kulesetet og halvkulen til vakuum for låsing for å opprettholde utjevningstilstanden.

Minder-Hightech gir deg en avansert teknologi for fotolitografi gjennom Aligner/Alignment Machine.

Sliter du med for lite nøyaktighet mens du skriver ut kretser på dine elektroniske produkter? Med Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine kan du hvile og vite at du vil oppnå høy presisjon på produksjonen av trykte kretser.

Med dette revolusjonerende elementet kan du sømløst overføre et høyoppløselig bilde til et produkt ved hjelp av fotolitografi. Denne maskinen garanterer nøyaktighet gjennom et operativt system for å justere materialet til bildet.

Etter at bildene er skrevet ut og lastet opp, beregner maskinen mengden eksponering som kreves og hvordan materialet er justert med omtale av bildene. Denne beregningen gjøres ved å bruke den nyeste dataprogramvaren som kan oppdateres for å møte den teknologiske utviklingen i produksjonsindustrien.

Det vil tillate deg å lage et bredt spekter, inkludert mikrokretser, radiofrekvenskretser (RF) og innebygde kretser. Enheten kan produsere den beste etsedybden, sporbredden og lag-til-lag-justeringen gjennom tillegg av ulike komplementære prosedyrer, som kjemisk etsing og galvanisering.

Vårt produkts fordel ligger i dets evne til å produsere høy justering, noe som garanterer at mønstrene er plassert med stor presisjon på materialet. Du kan enkelt skrive ut mange kompliserte design uten noen deformiteter.

Den er brukervennlig, kompakt og effektiv, noe som gjør den egnet for ulike produksjonsanlegg eller bedriftens størrelse. I tillegg kommer enheten vår med manuell vedlikehold og opplæring på stedet med vårt team av teknisk støttepersonell.

Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine bruker fotolitografiteknologi for å hjelpe deg med å oppnå de beste resultatene mens du skriver ut kretsene dine. Opplev et nytt nivå av teknologi som gir deg høy nøyaktighet og presisjon som ikke kan matches av tradisjonelle utskriftsmetoder. Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine er det produksjonsbedriften din trenger for å ligge et skritt foran konkurrentene. Ta kontakt med oss i dag for å nyte fordelene med den beste Aligner/Alignment Machine-teknologien på markedet.