CVD-utstyr for grafen- og karbon-nanorørmaterialer / Halvlederutstyr , Kina CVD-utstyr for grafen- og karbonnanorørmaterialer / halvlederutstyr Produsenter, leverandører, fabrikk

produktbeskrivelse

CVD-utstyr for grafen og karbon nanorørmaterialer

Utstyret brukes hovedsakelig til prosessbelegg av grafen og nanomaterialer; Diffusjon, oksidasjon og utglødning av polykrystallinsk silisium og silisiumkarbid.

CVD-utstyr for grafen og karbon nanorørmaterialer / halvlederutstyrsfabrikk

Spesifikasjon

strukturell stil	Horisontal, enkeltrørs- eller flerrørssystem automatisk kontroll
Tilpass til waferstørrelse	2-8
Wafer levering og henting metode	Automatisk utkragende kvarts push-pull båt, kombinert med manuell spontaking og frigjøring.
maksimal temperatur	1050 ℃
arbeidstemperatur	400 ℃ ~ 850 ℃ kontinuerlig justerbar
Ettpunkts temperaturstabilitet	400℃~850℃≤±0.5℃/24t
Systemgrensevakuum	Bedre enn 1Pa
pumpehastighet	Pumpetid for å begrense vakuum ＜ 15min
Arbeidstrykkområde	5Pa til 1 × 105Pa kontinuerlig justerbar
Strømforsyning	3-faset 5-leder 380V±10%，50Hz
kjølevann	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Pakking og levering

Selskapet profil

Vi har 16 års erfaring med salg av utstyr. Vi kan gi deg One-stop Semiconductor Front-end og Back end Package Line utstyr profesjonell løsning fra Kina.