MDXN-25D Mask aligner , China MDXN-25D Mask aligner Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

Dette utstyret er en nøyaktig litografimaskin utviklet av vår selskap spesielt for brukskarakteristikker av litografimaskiner i ulike høgskoler og forskningsinstitutter. Den brukes hovedsakelig til utvikling og produksjon av små og mellomstore integrerte kretser, halvlederkomponenter, optoelektroniske enheter og overflatedobbelbølgeenhetene.
Under forutsetning av at opprinnelige hovedtekniske indikatorer for utstyr beholdes, har vi optimert noen strukturer og komponenter på utstyret, redusert noen unødvendige mekaniske handlinger, og forsikret at feilpunktene på utstyret er minitert så mye som mulig, og at driften av utstyret også er veldig stabil og pålitelig.

Spesifikasjon

Hovedtekniske parametere

1. Eksponeringstype: enkeltside.
2. Eksponeringsområde: 110×110mm.
3. Ujevne eksponeringslys: ≤±3%.
4. Eksponeringsintensitet: 0-30mw/cm2 justerbar.
5. UV-stråle-vinkel: ≤3°.
6. Sentralbølgetall for ultraviolettlys: 365nm.
7. UV-lys kilde levetid: ≥500 timer.
8. Bruker elektronisk skjerm.
9. Eksponeringsoppløsning: 1 μm;
10.Mikroskopisk skanneringsområde: X:±15mm Y:±15mm;
11.Justeringsområde: X,Y justering ±4mm; Q-retning justering ±3°;
12.Graveringsnøyaktighet: 1 μ Nøyaktigheten på brukerens "versjon" og "chip" må oppfylle nasjonale forskrifter,
og miljøet, temperatur, fuktighet og støv kan kontrolleres strengt. Importert positiv fotoresept brukes, og tykkelsen på den jevne fotoresept kan kontrolleres strengt. I tillegg er de forranne og etterranne prosessene avanserte;
13.Separasjonsmengde: 0~50 μm justerbar;
14.Eksponeringsmetode: nær eksponering, som kan oppnå hard kontakt, blød kontakt og mikro kraft kontakt eksponering; 15.Firkantfinningsformel: luft

Pakking & Levering

Bedriftsprofil

Vi har 16 års erfaring med utstyrssalg. Vi kan tilby deg en fulltjenestelig løsning for Semiconductor Front-end og Back end Package Line utstyr fra Kina.