MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner , China MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivelse

Dette utstyret brukes hovedsakelig til utviklingen og produksjonen av små og mellemstore integrerte kretser, semiconductor komponenter, og overflatedobbelvev enheter. Grunnet den avanserte nivelleringssmekanismen og lave nivelleringstilskuddet, er denne maskinen ikke bare egnet for utssetting av ulike typer substrater, men også for utssetting av lettlemskadede substrater som kaliumarsenid og fosfatstål, samt utssetting av ikke runde og små substrater.

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner manufacture

Spesifikasjon

Hovedtekniske parametere

1. Eksponerings type: enkelt side eksponering
2. Eksponeringsområde: 110X110mm;
3. Eksponeringsjevnhet: ≥ 97%;
4. Eksponeringsintensitet: 0-30mw/cm2 justerbar;
5. UV-strålingsvinkel: ≤ 3 °
6. Sentralbølgelengde for ultraviolett lys: 365nm;
7. UV-lys kilde levetid: ≥ 20000 timer;(2 års garanti)
8. Bruker elektronisk skytt;
9. Eksponeringsoppløsning: 1 μ M
10. Kamera synsfelt: ± 15mm Y: ± 15mm
11. Justeringsområde: x: ± 4mm Y: ± 4mm Q: ±3°.
12. Justeringsnøyaktighet: 1um (under gode miljøforhold)
13. Separasjonsavstandsområde: 0-50um justerbar.
14. Eksponeringsmetode: kontakt eksponering (hard/soft/mikro berøring).
15. Balansemetode: Luftflytning.
16. Mikroskopsystem: dual synsfelt CCD-system, objektivlinse 1,6X~10X, datamaskinbildebehandlingsystem, 19 "LCD-skjerm; Total forstørrelse 91-570x. Avstand fra objektiv: 50-120mm.
17. Maskestørrelse: 127*127mm; 102*102mm
18. Substratestørrelse: Φ102mm; Φ76mm
19. Substratetykkelse: ≤1mm
20. Eksponeringstid: 0-999,9 sekunder justerbar.
21.Kraft: 220V 50Hz 1.5kw.
22.luftkilde? 0.4Mpa
23.Vakuumgrad: -0.07MPa~-0.09Mpa

Pakking & Levering

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner details

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner factory

Bedriftsprofil

Vi har 16 års erfaring med utstyrssalg. Vi kan tilby deg en fulltjenestelig løsning for Semiconductor Front-end og Back end Package Line utstyr fra Kina.