MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner , Kina MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner Produsenter, leverandører, fabrikk

produktbeskrivelse

Dette utstyret brukes hovedsakelig til utvikling og produksjon av små og mellomstore integrerte kretser, halvlederkomponenter og akustiske overflatebølgeenheter. På grunn av den avanserte utjevningsmekanismen og lave utjevningskraften er denne maskinen ikke bare egnet for eksponering av ulike typer underlag, men også for eksponering av lett fragmenterte underlag som kaliumarsenid og fosfatstål, samt eksponering av ikke- sirkulære og små underlag.

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner produksjon

Spesifikasjon

Viktigste tekniske parametere

1. Eksponeringstype: enkeltsideeksponering
2. Eksponeringsområde: 110X110mm;
3. Ensartet eksponering: ≥ 97 %;
4. Eksponeringsintensitet: 0-30mw/cm2 justerbar;
5. UV-strålevinkel: ≤ 3 °
6. Sentral bølgelengde for ultrafiolett lys: 365nm;
7. UV-lyskildens levetid: ≥ 20000 2 timer; (XNUMX års garanti)
8. Vedta elektronisk lukker;
9. Eksponeringsoppløsning: 1 μM
10. Kameravisningsområde: ± 15 mm Y: ± 15 mm
11. Justeringsområde: x: ± 4 mm Y: ± 4 mm Q：±3°.
12. Justeringsnøyaktighet: 1um (under god miljøtilstand)
13. Separasjonsavstandsområde: 0-50um justerbar.
14. Eksponeringsmetode: kontakteksponering.(hard/myk/mikroberøring)
15.Balansemetode: Luftflotasjon.
16. Mikroskopisk system: CCD-system med dobbelt synsfelt, objektivlinse 1.6X~10X, databehandlingssystem, 19" LCD-skjerm; Total forstørrelse 91-570x. avstand til objektiv: 50-120mm.
17. Maskestørrelse: 127*127mm;102*102mm
18. Substratstørrelse: Φ102mm；Φ76mm
19. Substrattykkelse: ≤1mm
20. Eksponeringstid: 0-999.9 sekunder justerbar.
21. Strøm: 220V 50Hz 1.5kw.
22.luftkilde?0.4Mpa
23. Vakuumgrad: -0.07MPa~-0.09Mpa

Pakking og levering

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner detaljer

MDXN-25D4 High Precision Mask Aligner fabrikk

Selskapet profil

Vi har 16 års erfaring med salg av utstyr. Vi kan gi deg One-stop Semiconductor Front-end og Back end Package Line utstyr profesjonell løsning fra Kina.