Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Hjemmeside
Om Oss
MH Equipment
Løsning
Utlandbrukere
Video
Kontakt oss
Hjem> PR fjerning RTP USC
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin
  • Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin

Semikonduktorplater Silis karbid etching RIE Reaktiv jon etching Plasma Fototapent fjerning maskin

Produktbeskrivelse

RIE Plasma fototett fjerningsmaskin

RIE Plasma fototett fjerningsmaskin egnet for karbid silicon fraksering, overflate rest fjerning, silicon oksid eller silicon nitrid fraksering, etc. Hulen er egnet for 4-8 tommer prøver
Ettering av silisiumkarbid
Overflaterensning etter etching
DESCUM
Hård maskelag, tørr fjerning
Ettering av silisiumoksid eller silisiumnitrid
Fjerning av optisk motstand mellom media
Fjerning av overflateforretninger
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Spesifikasjon
PLASMA kilde
RF
Effekt
ICP
_
BIAS
1000W(valgfritt)
Anvendelsesområde
4~8 tommer
Antall enkeltbehandleslice
1
Utseende
850mmx900mmx1850mm
Systemkontroll
PLC
Automatiseringsnivå
Manuell
Fabrikk
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Pakking & Levering
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Bedriftsprofil
16 år med erfaring innen utstyrseksport! Vi kan tilby deg en fullført løsning for Semiconductor Front End Processes og Utstyr!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

Spørre

Spørre Email Whatsapp WeChat
Top
×

Kontakt oss