Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
EN
Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.
Få tilbud

Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Hjemmeside
Om Oss
MH Equipment
Løsning
Utlandbrukere
Video
Kontakt oss
Hjem> PR fjerning RTP USC
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious
  • Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious

Maskin for fjerning av fototeknisk resist fra halvlederwafer ved plasma Serious

Få et Gratis Tilbud
Produktbeskrivelse

BATCH PLASMA Maskin for fjerning av fotoresist på halvledervafel

Behandlingstemperaturen er lav og kan opprettholde plasman under høy trykk
DESCUM Vafelrensete Fuktig fjerning av fotoresist Fjerning av overflateavfall Fjernetting av fotoresist etter eksponering og utvikling
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Spesifikasjon
PLASMA kilde
RF
mikrobølgeovn
Effekt
1000W
1250w
Anvendelsesområde
4~8 tommer
4~8 tommer
Antall enkeltbehandleslice
4~6 tommer=50 stk /8 tommer=25 stk
4~6 tommer=50 stk/8 tommer=25 stk
Utseende
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Systemkontroll
PC
PC
Automatiseringsnivå
BIL
BIL
Fabrikk
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Produktdetaljer
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Pakking & Levering
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Bedriftsprofil
16 år med erfaring i utstyrseksport! Vi kan tilby deg en fullt decket løsning for Semiconductor Front-/Back End Prosesser og Utstyr!
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Flere produkter

Spørre

Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved

Personvernerklæring

Spørre Email Whatsapp WeChat
Top
×

Kontakt oss