CVD Oprema za grafen in ogljikove nanocvice / Polprevodniška oprema , China CVD Oprema za grafen in ogljikove nanocvice / Polprevodniška oprema Manufacturers, Suppliers, Factory

Opis produkta

CVD oprema za grafiten in uglevne nanocvirke materialov

Oprema je glavno namenjena procesu ploščanja grafitena in nano materialov; difuzija, oksidacija in oživljanje polikristalnega silicija in karbidu silicija.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specificacija

stavitveni slog	Vodoraven, enoplosčni ali večplosčni sistem s samodejnimi nadzori
Prilagojenost do velikosti plošče	2-8″
Metoda dostave in prevzema plošč	Samodejni kantiloverovski kvartovni potiskovalno-veljavni čoln, združen s ročnim prevzemanjem in sproščanjem čipov.
maksimalna temperatura	1050℃
Delovna temperatura	400 ℃~850 ℃ zvezno prilagodljivo
Enotočkasta temperaturna stabilnost	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Sistemski omejiti vakuum	Boljše od 1Pa
hitrost črpkanja	Čas črpkanja do omejitvenega vakuuma < 15Min
Delovni obseg tlaka	Neprekinjivo prilagodljivo od 5Pa do 1 × 105Pa
Napajanje	3 fazne 5-žične 380V±10%, 50Hz
Hladilna voda	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakiranje & Dostava

Podjetni profil

Imamo 16 let izkušenj v prodaji opreme. Lahko vam ponudimo enostopenjsko rešitev strojev za polprevodnike, front-end in back-end pakirno vrstico iz Kitajske.