Oprema CVD za grafen in ogljikove nanocevke / polprevodniška oprema, Kitajska CVD oprema za grafen in ogljikove nanocevke / polprevodniško opremo Proizvajalci, dobavitelji, tovarna

opis izdelka

Oprema CVD za materiale iz grafena in ogljikovih nanocevk

Oprema se uporablja predvsem za procesno nanašanje grafena in nano materialov; Difuzija, oksidacija in žarjenje polikristalnega silicija in silicijevega karbida.

Oprema CVD za materiale iz grafena in ogljikovih nanocevk / Tovarna polprevodniške opreme

Tehnični podatki

strukturni slog	Samodejno krmiljenje vodoravnega, enocevnega ali večcevnega sistema
Prilagodi se velikosti rezin	2-8 ″
Način dostave in odvzema rezin	Avtomatski konzolni kvarčni potisni čoln, kombiniran z ročnim odvzemom in odvajanjem odrezkov.
najvišja temperatura	1050 ℃
delovna temperatura	400 ℃ ~ 850 ℃ zvezno nastavljiv
Enotočkovna temperaturna stabilnost	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Mejni vakuum sistema	Bolje kot 1 Pa
hitrost črpanja	Čas črpanja za omejitev vakuuma < 15 min
Razpon delovnega tlaka	5Pa do 1 × 105Pa zvezno nastavljiv
Napajanje	3-fazni 5-žilni 380V±10%, 50Hz
hladilna voda	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakiranje in dostava

predstavitev podjetja

Imamo 16 let izkušenj s prodajo opreme. Nudimo vam lahko profesionalno rešitev za polprevodniško opremo za sprednji in zadnji del paketne opreme na enem mestu iz Kitajske.