ICP suha plazmenska odstranitev fotoresista / Plazmenska odstranitev fotoresista (PR) stroj za polprevodniške ploče , China ICP suha plazmenska odstranitev fotoresista / Plazmenska odstranitev fotoresista (PR) stroj za polprevodniške ploče Manufacturers, Suppliers, Factory

Opis produkta

ICP PLASMA Odstranitev fotorezista Stroj

mivajo
Odstranjevanje polimerov
Suha odstranitev trde slike
Odstranitev photoresist po jonski implantaciji
Odstranitev fotoresistiranja v procesu BAW/SAW
Suha čiščenja sloja graficnega filmskega anti-refleksnega obloga
Odstranitev površinskega ostanka
Površinsko čiščenje po lepiljenju
DESCUM

Stroj za suho plazmensko odstranitev fotoresistiranja ICP je primernost za DESCUM (predobdelava, odstranitev ostankov fotoresistiranja) Odstranitev polimerov (PI, BCB, PBO) Po jonskem vgradnju, odstranitev fotoresistiranja itd., prostor je primernost za vzorce 8 palcev (kompatibilno z 4-6 palci)

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer details

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer supplier

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer manufacture

ICP dry Plasma Removal of Photoresist / Plasma Photoresist removal (PR) machine for semiconductor wafer factory

Specificacija

Plazma			RF	RF
Moč	ICP	1000W	1000W
Moč		BIAS	600w(option)	600w(option)
Namena uporabe			4~8 palec	4~8 palec
Število obdelanih pladenkov			1	2
Izgledne razmere			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
Kontrola sistema			Industrijski nadzorni sistem	Industrijski nadzorni sistem
Stopnja avtomatizacije			Avtomatsko	Avtomatsko