ЦВД опрема за материјале графена и угљеничних наноцеви / полупроводничка опрема, Кина ЦВД опрема за материјале од графена и угљеничних наноцеви / произвођачи полупроводничке опреме, добављачи, фабрика

Опис производа

ЦВД опрема за графен и материјале од угљеничних наноцеви

Опрема се углавном користи за процесно премазивање графена и нано материјала; Дифузија, оксидација и жарење поликристалног силицијума и силицијум карбида.

ЦВД опрема за материјале графена и угљеничних наноцеви / детаљи о опреми за полупроводнике

ЦВД опрема за материјале графена и угљеничних наноцеви / фабрика полупроводничке опреме

Спецификација

структурални стил	Хоризонтална, једноцевна или вишецевна аутоматска контрола система
Прилагодите се величини облатне	2-8 ″
Начин испоруке и преузимања вафла	Аутоматски конзолни кварцни пусх-пулл чамац, у комбинацији са ручним узимањем и отпуштањем струготине.
максимална температура	КСНУМКС ℃
радна температура	400 ℃ ~ 850 ℃ континуирано подесиво
Стабилност температуре у једној тачки	400℃~850℃≤±0.5℃/24х
Системски гранични вакуум	Боље од 1Па
брзина пумпања	Време пумпања за ограничење вакуума ＜ 15 мин
Распон радног притиска	5Па до 1 × 105Па континуирано подесиво
Напајање	3 фазе 5-жични 380В±10%，50Хз
хлађење воде	2~4Кгф/цм²，8Л/мин;

Паковање и достава

профил компаније

Имамо 16 година искуства у продаји опреме. Можемо вам пружити професионалну опрему за полупроводничке предње и задње линије пакета на једном месту из Кине.