CVD Опрема за графен и угљени nanotube материјале / Полупроводничка опрема , China CVD Опрема за графен и угљени nanotube материјале / Полупроводничка опрема Manufacturers, Suppliers, Factory

Opis Proizvoda

CVD oprema za grafiten i ugljikovne nanocijevi materijale

Oprema se glavnо koristi za procesnu oblagu grafitena i nano materijala; Difuzija, oksidacija i otpaljivanje polikristalnog silicijuma i karbida silicijuma.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specifikacija

struktura	Horizontalno, jednotrajni ili višetrajni sistem sa automatskom kontrolom
Prilagođeno veličini talasa	2-8"
Metod dostave i uzimanja talasa	Automatski kantilervni kvartzeni češljački brod, kombinovan sa ručnim uzimanjem i otpuštanjem čipova.
Maksimalna Temperatura	1050℃
Radna temperatura	400 ℃~850 ℃ neprekidno prilagođivo
Jednotočkasta temperaturna stabilnost	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Sistemski granični vakuum	Bolje od 1Pa
brzina čuvanja	Vreme čuvanja do graničnog vakuma < 15Min
opseg radnog pritiska	5Pa do 1 × 105Pa neprekidno prilagođivo
Извор енергије	3 faze 5-žično 380V±10%, 50Hz
Voda za hlađenje	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Pakovanje i dostava

Profil kompanije

Imamo 16 godina iskustva u prodaji opreme. Možemo Vam pružiti kompletno rešenje za opremu iz Kitajske za profesionalnu liniju pakovanja poluprovodnika, kako na početku tako i na kraju procesa.