Семицондцтор вафер Силицијум карбид јеткање РИЕ Реактивно јонско јеткање плазма фоторезист машина за уклањање, Кина Семицондцтор вафер Силицијум карбид јеткање РИЕ Реактивно јонско јеткање плазма фоторезист машина за уклањање произвођачи, добављачи, фабрика

Опис производа

Машина за уклањање плазма фоторезиста РИЕ

РИЕ Пласма машина за уклањање фотоотпорника погодна за јеткање силицијум карбидом, уклањање површинских остатака, јеткање силицијум оксидом или силицијум нитридом, итд. Шупљина је погодна за узорке од 4-8 инча

Јеткање силицијум карбидом
Чишћење површине након јеткања
ДЕСЦУМ
Тврди слој маске, суво уклањање
Јеткање силицијум оксидом или силицијум нитридом
Уклањање оптичког отпора између медија
Уклањање површинских остатака

Семицондцтор вафер силицијум карбид гравирање РИЕ реактивно јонско јеткање плазма фоторезист Фабрика машина за уклањање

Семицондцтор вафер Силицијум карбид Етцхинг РИЕ Реацтиве Ион Етцхинг Пласма Пхоторесист Ремовал Мацхине добављач

Спецификација

ПЛАСМА извор			RF
снага	ICP	_
снага		БИАС	1000В (опција)
Применљив опсег			4~8 инча
Број појединачних обрада			1
Димензије изгледа			КСНУМКСммкКСНУМКСммкКСНУМКСмм
Контрола система			ПЛЦ
Ниво аутоматизације			Упутство