Industrija poluprovodnika ICP laboratorijski uređaj za uklanjanje PR Photoresist Residual Removal , China Industrija poluprovodnika ICP laboratorijski uređaj za uklanjanje PR Photoresist Residual Removal Manufacturers, Suppliers, Factory

Opis Proizvoda

ICP laboratorijskog tipa PR uklanjanje Fotorezist Uklonilac aparat

Peranje
Uklanjanje polimera
DESCUM
Suvo uklanjanje sloja čvrstog maska
Fotoresist uklanjanje nakon ženske jonovne implantacije
Uklanjanje optičkog otpora između medija
Uklanjanje fotorezistencije u procesu BAW/SAW
Suvo čišćenje protiv odbijajućeg grafickog filmskog sloja Y
Izrada silikon oksida ili silikon nitrida
Uklanjanje ostataka s površine
Čišćenje površine nakon etiranja
Izrada iz silikonskog karbida

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Процес

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal details

Prednost:

Jedinstvena Prednost

Visoki stepen degumiranja: Visoke gustoće plazma, brzi stepen degumiranja
Stabilnost: Nakon plazmenske obrade, visoka reprodukcibilnost
Daleki plazma: Daleki plazma, niskiioni štete pločici
Istaknuto softver: neovisno istraživanje i razvoj softvera, intuitivna procesna animacija, detaljni podaci i zapisi
Jednakost: Plazma može da kontroluje pritisak i temperaturu kroz leptirovani klupac
Faktor sigurnosti: Niski plazma smanjuje štetu proizvodu pri otpuštanju.
Posleprodajni servis: Brzi odgovor i dovoljno stanja na lageru
Kontrola prašine: Ispunjava zahteve kupaca.
Jedinstvena tehnologija: Sa skoro 40% članova tima R&D

Casette platforma (MD-ST 6100/620)

1. 4 nosača za pločice
2. Visoka kompatibilnost: fleksibilnost izbora veličine vefera donosi visoku efikasnost troškova i rešenja.
3. Komora za vakuumski prenos s visokom stabilnošću:
Dovoljno je zreli i stabilni vakuumski prijenosni dizajn koji je mnogo godina zrelo primijenjen na tržištu i dobro priznat od strane kupaca.
Dizajn rotirajuće ploče, usko prostor, značajno smanjuje rizik od ČESTICE
4. Humanizirani sučelje operacije softvera:
Intuitivno humanizirano sučelje operacije softvera, stvarno vremensko praćenje statusa rada stroja;
Kompletna alarmna i protupogrešna funkcija da bi se izbjegla pogrešna operacija.
Moćna funkcija izvoza podataka, zapisi raznih procesnih parametara i izvoz zapisa proizvodnje proizvoda.

Robot

1. Jednom dvostruko uzimanje i stavljane vefera dizajn donosi visoku produktivnost
2. Poboljšanje efikasnosti prostora.

Загревање плоча

1. Kontrola temperature sa visokom preciznošću za ploču za vefer
Grejanje vefera od sobne temperature do 250°C, tačnost kontrole temperature ±1°C
Ploča za grejanje vefera je kalibrirana profesionalnim instrumentima, a uniformnost je unutar ±3°C, što osigurava uniformno uklanjanje lepljive tvari
2. Obrađivanje dva vefera u jednoj komori
Dizajn s jednom komorom za dva vefera;
Nezavisno otpuštanje snage za svaki vefer, što osigurava efektno uklanjanje PR-a sa svakog vefera;
Pod uslovom da se osigura UPH efikasnost, smanjuje se cena proizvoda. Izuzetna kompatibilnost
3. Kapacitet proizvodnje: reakciona komora dizajnirana za dva vefera, visoka efikasnost proizvodnje.

Semiconductor industry ICP lab type PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

Specifikacija

Извор плазме			RF+BIAS
Snaga	1000W	1000W
Snaga		600W	600W
Oblast primene			4-8 inches
Broj jednokratno obrađivanih šalova			jedan
Димензије изгледа			1140mm x 1050mm x 1620mm
Upravljanje sistemom			Sistem Za Industrijsko Upravljanje
Ниво аутоматизације			Ručno

Hardverske mogućnosti
Radno vreme/Dostupno vreme	≧95%
Prosečno vreme za čišćenje (MTTC)	≦6 sati
Prosečno vreme za popravku (MTTR)	≦4 sata
Prosečno vreme između grešaka (MTBF)	≧350 sati
Prosečno vreme između pomoći (MTBA)	≧24 sata
Prosečna veština između poloma (MWBB)	≦1 u 10.000 pločica
Upravljanje grejačkom pločom	50-250°