Aligner / Alignment Machine photolitography , Kina Aligner / Alignment Machine photolitography Tillverkare, leverantörer, fabrik

Produktbeskrivning

Mask Aligner litografimaskin

Mask Aligner används huvudsakligen vid utveckling och produktion av små och medelstora integrerade kretsar, halvledarkomponenter, optoelektroniska enheter, ytakustiska vågenheter, tunnfilmskretsar och kraftelektroniska enheter
Mask Aligner Även känd som: mask alignment exponeringsmaskin, exponeringssystem, litografisystem, etc., är kärnutrustningen för tillverkning av chips. Den använder teknik som liknar fotoutskrift för att skriva ut de fina mönstren på masken på silikonskivan genom ljusexponering
Huvudsakligen sammansatt av: arbetsbänk för högprecisionsjustering, vertikalt mikroskop med binokulärt separerat synfält, horisontellt mikroskop med binokulärt separerat synfält, digitalkamera, minnessystem för datoravbildning, exponeringshuvud för flerpunktsljuskälla (flugöga), PLC-kontrollsystem, pneumatiskt system, vakuumsystem, direktansluten vakuumpump, sekundär antivibrationsarbetsbänk och tillbehörslåda

Tillverkning av fotolitografi för Aligner/Alignment Machine

Aligner / Alignment Machine fotolitografi fabrik

Karakteristisk

1. Hög likformig exponeringshuvud för flygögon / luftflytande utjämningsmekanism / tillförlitlig vakuumklämningsexponering. hög upplösning.
2. Inriktningsmetod med mask håller stabil och substratmatning, vilket säkerställer konsistensen av guidens gravitation och kraften.
3. Använda spaltfri rak guide, hög precision, snabb hastighet.
4. Alla modeller lämpar sig för att fungera med alla vanliga fotoresister. som AZ, Shipley, SU 8.
5. Alla modeller Mönsterkvaliteten som överförs av systemet till substrat 5 maskapplikationerna bör vara densamma som mönsterkvaliteten efter appliceringen av den första masken.
6. Exponeringstid justerbar mellan 1 sekund och 1 timme. Inriktningsnoggrannhet 1 µm

Leverantör av fotolitografi för Aligner/Alignment Machine

Aligner / Alignment Machine fotolitografi detaljer

Specifikation

Modell	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Exponeringstyp	En sida			Dubbel sidojustering och dubbel sidoexponering
Exponeringsläge	Kontakt hård, mjuk och beröringsfri närhet
Antal exponeringshuvud	1 Exponeringshuvud			2 Exponeringshuvud
Typ av ljuskälla	GCQ350 sfärisk kvicksilverlampa						LED UV exponeringshuvud
kylmetod	luftkylning
Exponeringsområde	Φ100mm	110 × 110mm	Φ100mm		150mm × 150mm
Exponeringsläge	Kompatibel med kontakt hård, mjuk
Ojämnheter i exponeringen	Φ100mm<±3%<>	≤ ± 3%
Exponeringsupplösning	2μm	1 xm
Strålintensitet (365 nm)	≥6mw/cm²	≤40mw/cm2	≥5mw/cm2		0~30mw/cm2
Strålinhomogenitet	≤ ± 4%	≤ ± 3%
UV-ljus maximal avvikelsevinkel	4 °	3 °
Belysningsområde	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Fram och bak ≥ Φ115mm
Kilfelskompensationsläge	Hemisfärisk automatisk kompensation			Automatisk eliminering		3 poäng automatisk kompensation
Förflyttningen för X- och Y-axlarna	± 4mm	± 5mm	± 4mm		± 5 mm
Resan för θ	± 3 °	≤5 °	≤±5º		≤0.5 °
XYZ substratförskjutningsupplösning	0.5μm	0.3μm	0.3μm		0.01μm
Mikroskopsystem	Två enkelrörsmikroskop/Två CCD-kameror
Visa storlek	15 inches
Bildsystemupplösning	2μm	1.5μm	1.5μm		1.5μm
Mask och substratets mätavstånd	0.5 μm	0.3 μm
Diagonal dimension av CCD-målytan	1/3, (6 mm)						40 mm–110 mm
Dukning bord storlek	≤ Fyrkantig 5*5 tum (anpassningsbara specifikationer)
Substratstorlek	Φ 100mm eller 100*100mm kvadrat	60*49.5 mm kvadrat	2”-4”		1"x1"-5"x5"
Substrattjocklek	1-3mm	≤5 mm	1-3mm		≤5 mm
Vakuumpump	Oljefri mute（-0.07～－0.08MPα）
Ren komprimerad luft	≥0.4 MPα
Strömförsörjning	AC 220V±10% 50HZ 1.5KW
Renrumsklass	klass 100
Ren rumstemperatur	25 ℃ ± 2 ℃
Relativ luftfuktighet i rena rum	≤60%
Vibrationsamplitud för rent rum	≤4 μm
Utrustningens storlek	1300 × 720 × 1600 mm				1500 × 800 × 1600 mm
Utrustning vikt	200kg				280kg

Att tillverka högprecisionsinriktningssystem måste ha en nästan perfekt mekanisk precisionsprocess. Ett annat tekniskt problem med inriktningssystem är inriktningsmikroskop. För att förbättra synfältet för mikroskop använder många avancerade litografimaskiner LED-belysning. Det finns två uppsättningar av inriktningssystem med fokuseringsfunktion. Den består huvudsakligen av två ögon och två synfält som syftar till huvuddelen av mikroskopet, ett par okular och ett par objektivlins (litografimaskinen tillhandahåller vanligtvis okular och objektiv med olika förstoring för användarna). Funktionen hos CCD-inriktningssystem är att förstora inriktningsmärkena för masken och provet och avbilda dem på monitorn.

Arbetsstyckessteget är en nyckeldel av litografimaskinen, som består av maskprovets totala rörelsesteget (XY), maskprovets relativa rörelsesteget (XY), rotationssteget, provutjämningsmekanismen, provfokuseringsmekanismen , wafersteget, maskklämman och det utdragbara masksteget. Provutjämningsmekanismen innefattar ett kulsäte och en halvklot. I utjämningsprocessen appliceras först tryckluft på kulsätet och halvklotet, och sedan rör sig kulsätet, halvklotet och provbiten uppåt genom det fokuserande handhjulet, så att provbiten kan jämnas mot masken, och sedan trevägsmagnetventilen med två lägen växlar kulsätet och halvklotet till vakuum för låsning för att bibehålla nivåläget.

Minder-Hightech ger dig en avancerad teknik för fotolitografi genom Aligner/Alignment Machine.

Kämpar du med otillräcklig noggrannhet när du skriver ut kretsar på dina elektroniska produkter? Med Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine kan du vila med att veta att du kommer att uppnå hög precision på din produktion av tryckta kretsar.

Med detta revolutionerande föremål kan du sömlöst överföra en högupplöst bild till en produkt med hjälp av fotolitografi. Denna maskin garanterar noggrannhet genom ett operativt system för att anpassa materialet till bilden.

Efter att bilderna har skrivits ut och laddats upp, beräknar maskinen hur mycket exponering som krävs och hur materialet är justerat med omnämnandet av bilderna. Denna beräkning görs med hjälp av den senaste programvaran som kan uppdateras för att möta den tekniska utvecklingen inom produktionsindustrin.

Det gör att du kan skapa ett brett utbud, inklusive mikrokretsar, radiofrekvenskretsar (RF) och inbyggda kretsar. Enheten kan producera det bästa etsdjupet, spårbredden och lager-till-lager-inriktningen genom tillägg av olika kompletterande procedurer, såsom kemisk etsning och galvanisering.

Vår produkts fördel ligger i dess förmåga att producera hög uppriktning, vilket garanterar att mönster placeras med stor precision på materialet. Du kan enkelt skriva ut många komplicerade mönster utan några missbildningar.

Den är användarvänlig, kompakt och effektiv, vilket gör den lämplig för olika tillverkningsanläggningar eller företagsstorlekar. Dessutom kommer vår enhet med manuellt underhåll och utbildning på plats med vårt team av teknisk supportpersonal.

Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine använder fotolitografiteknik för att hjälpa dig att uppnå bästa resultat när du skriver ut dina kretsar. Upplev en ny tekniknivå som ger dig hög noggrannhet och precision som inte kan matchas av traditionella utskriftsmetoder. Minder-Hightechs Aligner/Alignment Machine är vad ditt tillverkningsföretag behöver för att ligga steget före konkurrenterna. Kontakta oss idag för att ta del av fördelarna med den bästa Aligner/Alignment Machine-tekniken på marknaden.