CVD-utrustning för grafen- och kolnanorörsmaterial / Halvledarutrustning , Kina CVD-utrustning för grafen- och kolnanorörsmaterial / Halvledarutrustning Tillverkare, leverantörer, fabrik

Produktbeskrivning

CVD-utrustning för grafen och kolnanorörsmaterial

Utrustningen används huvudsakligen för processbeläggning av grafen och nanomaterial; Diffusion, oxidation och glödgning av polykristallint kisel och kiselkarbid.

CVD-utrustning för grafen och kolnanorörsmaterial / Halvledarutrustningsfabrik

Specifikation

strukturell stil	Horisontell, enkelrörs- eller flerrörssystem automatisk styrning
Anpassa till waferstorlek	2-8 "
Metod för leverans och hämtning av rån	Automatisk fribärande kvarts push-pull båt, kombinerad med manuell spåntagning och frigöring.
maximal temperatur	1050 ℃
arbetstemperatur	400 ℃ ~ 850 ℃ kontinuerligt justerbar
Enpunkts temperaturstabilitet	400℃~850℃≤±0.5℃/24h
Systemgränsvakuum	Bättre än 1Pa
pumphastighet	Pumptid för att begränsa vakuum ＜ 15min
Arbetstryckområde	5Pa till 1 × 105Pa steglöst justerbar
Strömförsörjning	3-fas 5-tråds 380V±10%，50Hz
kylvatten	2~4Kgf/cm²，8L/min;

Förpackning och leverans

Företagsprofil

Vi har 16 års erfarenhet av försäljning av utrustning. Vi kan förse dig med One-stop Semiconductor Front-end och Back end Package Lines professionell lösning från Kina.