CVD-Utrustning för grafen och kolnanorörmaterial / Halvledarutrustning , China CVD-Utrustning för grafen och kolnanorörmaterial / Halvledarutrustning Manufacturers, Suppliers, Factory

Produktbeskrivning

CVD-utrustning för grafen och kolnanorörmaterial

Utrustningen används huvudsakligen för processbeläggning av grafen och nanomaterial; Diffusion, oxidation och annekaling av polycrystallin silicium och siliconkarbid.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Specificitet

konstruktionsstil	Horisontell, enkelrörig eller flerrörig system med automatisk kontroll
Anpassad till plattformstorlek	2-8″
Metod för att hämta och lämna plattformar	Automatisk kantlärare kvarts tryck-drag båt, kombinerad med manuellt tag och släpp av chips.
Maximaltemperatur	1050℃
Arbets temperatur	400 ℃~850 ℃ kontinuerligt justerbart
Enpunkts temperaturstabilitet	400℃~850℃≤±0,5℃/24h
Systemgränsvakuum	Bättre än 1Pa
pumpningshastighet	Pumpningstid till gränsvakuum ＜ 15Min
arbetstrycksområde	5Pa till 1 × 105Pa kontinuerligt justerbart
Strömförsörjning	3 fas 5-tråd 380V±10%, 50Hz
Kylvatten	2~4Kgf/cm², 8L/min;

Förpackning & Leverans

Företagsprofil

Vi har 16 års erfarenhet av utrustningsförsäljning. Vi kan erbjuda en total lösning för professionella semikonduktorequipageringslinjer från Kinas framsidan och bakslut.