MDXN-31D2 Mask aligner , Kina MDXN-31D2 Mask aligner Tillverkare, leverantörer, fabrik

Produktbeskrivning

Används huvudsakligen för utveckling och produktion av små och medelstora integrerade kretsar, halvledarkomponenter, optoelektroniska enheter, ytakustiska vågenheter, tunnfilmskretsar och kraftelektroniska enheter. Denna maskin är en dubbelsidig kontaktexponeringsmaskin, med en specialdesignad omtryckningsmekanism som kan eliminera substratkilfel och säkerställa god kontakt mellan de övre och nedre maskplattorna på substratets övre och nedre sidor, och därigenom säkerställa exponeringskvaliteten för substratets övre och nedre sidor.

Specifikation

Huvudsakliga tekniska parametrar

1. Energi som krävs för utrustning: Stordatorströmförsörjning: 220V, 50HZ, strömförbrukning≤1.5KW;
2. Utrustad med en vakuumpump med en strömförsörjning på 220V;
3.Storlek och vikt: Storlek:1200(längd)×720(bredd)×1500(hög). Vikt ≤170 kg;
4. Placera maskinkroppen på en särskild arbetsbänk;
5. Exponeringstyp: kontakttyp, plåtinriktning, dubbelsidig exponering;
6.Exponeringsområde:φ100mm;
7.Ojämn exponering: ≤±3%;
8.Exponeringsintensitet: ≥5mw/cm2;
9.Exponeringsupplösning: 2μm;
10.Exponeringsläge: Dubbelsidig samtidig exponering;
11. Inriktningsområde: X: ±5mm Y:±5mm;
12. Gravyrnoggrannhet: 2μm;
13.Rotationsintervall: Q-riktnings rotationsjustering ≤±5°;
14.Mikroskopiskt system: CCD-system med dubbla synfält, objektiv 1.6X~10X, datorbildbehandlingssystem, 19" LCD-skärm;
15. Maskstorlek: Kan absorberas i vakuum

Förpackning och leverans

Företagsprofil

Vi har 16 års erfarenhet av försäljning av utrustning. Vi kan förse dig med One-stop Semiconductor Front-end och Back end Package Lines professionell lösning från Kina.