* Infrarött halogenrör för uppvärmning, avkylning med luftkylning; * PlD-temperaturreglering för lampeffekt, vilket kan noggrant kontrollera temperaturstigning, och säkerställa god reproducerbarhet och temperaturjämlikhet; * Materialinmatningen är placerad på WAFER-ytan för att undvika kallpunktsbildning under annekaleringsprocessen och säkerställa god temperaturjämlikhet för produkten; * Både atmosfäriska och vakuum behandlingsmetoder kan väljas, med förbehandling och renande av materialet; * Två uppsättningar av processgaser är standard och kan utökas till upp till 6 uppsättningar av processgaser; * Den maximala storleken på ett mätbart enstaka kristallsiavsample är 12 tum (300x300 MM); * De tre säkerhetsåtgärderna för trygghetstemperaturöppnings skydd, temperaturkontrollöröppningsbehörighetsskydd och utrustningens nödstoppssäkerhetsskydd har fullt ut genomförts för att säkerställa instrumentets säkerhet;
Sammanfallning av 20-gradskurvor
20 kurvor för temperaturkontroll vid 850 ℃
Sammanfallning av 20 genomsnittliga temperaturkurvor
temperaturkontroll vid 1250 ℃
RTP-temperaturkontroll för 1000 ℃-process
process vid 960 ℃, kontrolleras av infrarött pyrometer
LED-processdata
RTD Wafer är en temperatursensor som använder speciella bearbetningstekniker för att införa temperatursensorer (RTDs) på specifika platser på ytan av en wafer, vilket möjliggör realtidsmätning av ytemperatur på wafvern. Riktiga temperaturmätningar på specifika platser på wafvern och den totala temperaturfördelningen på wafvern kan erhållas via RTD Wafer; Den kan också användas för kontinuerlig övervakning av tillfälliga temperaturförändringar på wafvern under värmeanteringen.
Fabriksutsikt
Företagsprofil
16 års erfarenhet inom utrustningsexport! Vi kan erbjuda dig en total lösning för Halvledare Front End/Back end Processer och Utrustning!
EN
AR
BG
CS
DA
NL
FI
FR
DE
EL
IT
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
IW
ID
LT
SR
SL
UK
VI
ET
HU
TH
TR
FA
AF
MS
GA
IS
HY
AZ
KA
