Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Hemsida
Om oss
MH Equipment
Lösning
Användare utomlands
Video
Kontakta oss
Hem> PR borttagning RTP USC
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin
  • Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin

Halvledarplatta Silikarbideättring RIE Reaktiv jonättring Plasma Fototacksäkerhet Borttagningsmaskin

Produktbeskrivning

RIE Plasma fototacksborttagningsmaskin

RIE Plasma fototacksborttagningsmaskin lämpar sig för kolsyreförätning, ytorresterborttagning, silikatoxid eller siliconitridförätning, etc. Hållaren är lämplig för 4-8 tum provprov
Kolsyreförätning
Ytstädning efter etchning
DESCUM
Hård masklag, torr borttagning
Silikatoxid eller siliconitridförätning
Borttagning av optisk motstånd mellan media
Ytorrester borttagning
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Specificitet
Plasmkälla
RF
Ström
ICP
_
BIAS
1000W(valfritt)
Tillämpningsområde
4~8 tum
Antal enskilda bearbetningsplattor
1
Utseendet
850mmx900mmx1850mm
Systemkontroll
PLC
Automationsnivå
Manual
Fabrik
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine factory
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Förpackning & Leverans
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Företagsprofil
16 års erfarenhet av utrustningsexport! Vi kan erbjuda dig en total lösning för Halvledares Första Processer och Utrustning!
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine details
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine supplier
Semicondctor wafer Silicon carbide etching RIE Reactive Ion Etching Plasma Photoresist Removal Machine manufacture

Fråga

Fråga Email WhatsApp Top
×

Kom i kontakt