Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

Hemsida
Om oss
MH Equipment
Lösning
Användare utomlands
Video
Kontakta oss
Hem> PR borttagning RTP USC
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious
  • Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious

Maskin för borttagning av semilefferskivplasma fotoresist PR-borttagningsserious

Produktbeskrivning

BATCH PLASMA Fjärrningsmaskin för fotoresist på halvledarwafer

Bearbetningstemperaturen är låg och kan hålla plasman under hög tryck
DESCUM Wafer rensning Våt borttagning av fotoresist Ytorrensning Borttagning av fotoresistrester efter exponering och utveckling
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Specificitet
Plasmkälla
RF
mikrovågsugn
Ström
1000W
1250 w
Tillämpningsområde
4~8 tum
4~8 tum
Antal enskilda bearbetningsplattor
4~6 tum=50 stück /8tum=25 stück
4~6 tum=50 stück/8 tum=25 stück
Utseendet
1250x1630x1900mm
1250x1630x1900mm
Systemkontroll
PC
PC
Automationsnivå
BIL
BIL
Fabrik
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Produktdetaljer
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Förpackning & Leverans
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory
Företagsprofil
16 års erfarenhet av utrustningsexport! Vi kan erbjuda dig en total lösning för Halvledarprocesser och -utrustning, både Front- och Back End!
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details
Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Fråga

Fråga Email WhatsApp Top
×

Kom i kontakt