Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

หน้าแรก
เกี่ยวกับเรา
MH Equipment
สารละลาย
ผู้ใช้งานต่างประเทศ
วิดีโอ
ติดต่อเรา
หน้าแรก> PVD CVD ALD RIE ICP EBEAM
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ
  • ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ

ระบบการกร่อนพลาสมาแบบคูปลิงเหนี่ยวนำ (ICP) อุปกรณ์สำหรับอุตสาหกรรมสารกึ่งตัวนำ

คำอธิบายสินค้า
ระบบการแกะสลักพลาสมาแบบเหนี่ยวนำ (icp)
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
ผลลัพธ์ของการประมวลผล

การแกะสลักควอตซ์/ซิลิกอน/เกรตติ้ง

การใช้แมสก์ BR เพื่อแกะสลักวัสดุควอตซ์หรือซิลิกอน รูปแบบอาร์เรย์เกรตติ้งมีเส้นบางที่สุดถึง 300nm และความชันของผนังด้านข้างของรูปแบบใกล้เคียง > 89° ซึ่งสามารถนำไปใช้ในการแสดงผล 3D อุปกรณ์ออปติคอลขนาดเล็ก การสื่อสารออปโตอิเล็กทรอนิกส์ ฯลฯ
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory

การแกะสลักคอมพาวด์/กึ่งiconductor

การควบคุมอุณหภูมิผิวตัวอย่างอย่างแม่นยำสามารถควบคุมรูปแบบการกัดกร่อนของวัสดุพื้นฐาน GaN, GaAs, InP และโลหะได้ดี เหมาะสำหรับอุปกรณ์ LED สีน้ำเงิน เลเซอร์ การสื่อสารด้วยแสง และแอปพลิเคชันอื่นๆ
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment manufacture

การกร่อนวัสดุที่เป็นฐานซิลิคอน

เหมาะสำหรับการกัดกร่อนวัสดุที่ใช้ซิลิกอนเป็นพื้นฐาน เช่น Si, SiO2 และ SiNx สามารถทำกระบวนการกัดกร่อนเส้นซิลิกอนขนาดมากกว่า 50nm และการกัดกร่อนรูกลมลึกในซิลิกอนขนาดน้อยกว่า 100um ได้
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment factory
ข้อมูลจำเพาะ
แผนผังการกำหนดโครงสร้างโครงการและเครื่องจักร
รายการ
MD150S-ICP
MD200S-ICP
MD150CS-ICP
MD200CS-ICP
MD300C-ICP
ขนาดผลิตภัณฑ์
≤6 นิ้ว
≤8 นิ้ว
≤6 นิ้ว
≤8 นิ้ว
กำหนดเอง≥12นิ้ว
แหล่งพลังงาน SRF
0~1000W/2000W/3000W/5000W ปรับได้ อัตโนมัติการจับคู่\,13.56MHz/27MHz
แหล่งพลังงาน BRF
0~300W/0~500W/0~1000W ปรับได้ อัตโนมัติการจับคู่,2MHz/13.56MHz
ปั๊มโมเลกุล
ไม่กัดกร่อน : 600 /1300 (ล./ส.) /กำหนดเอง
ป้องกันการกัดกร่อน:600 /1300 (ล./ส.) /กำหนดเอง
600/1300(ล./ส.) /กำหนดเอง
ปั๊ม Foreline
ปั๊มกลไก / ปั๊มแห้ง
ปั๊มแห้งป้องกันการกัดกร่อน
ปั๊มกลไก / ปั๊มแห้ง
ปั๊มสำหรับการสูบเริ่มต้น
ปั๊มกลไก / ปั๊มแห้ง
ปั๊มกลไก / ปั๊มแห้ง
แรงดันกระบวนการ
แรงดันที่ไม่มีการควบคุม / 0-0.1 / 1 / 10Torr แรงดันที่ควบคุมได้
ประเภทก๊าซ
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/
CHF3/C4F8/NF3/NH3/C2F6/Custom
(สูงสุด 12 ช่องทาง ไม่มีแก๊สกัดกร่อนและพิษ)
H2/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/CHF3/ C4F8/NF3/NH3/C2F6/Cl2/BCl3/HBr/
Custom(สูงสุด 12 ช่องทาง)
ระยะการใช้แก๊ส
0~5sccm/50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/500sccm/1000sccm/Custom
โหลดล็อค
ใช่หรือไม่
ใช่
ควบคุมอุณหภูมิตัวอย่าง
10°C~อุณหภูมิห้อง / -30°C~150°C / กำหนดเอง
-30°C~200°C / กำหนดเอง
ระบบทำความเย็นด้วยฮีเลียมแบบย้อนกลับ
ใช่หรือไม่
ใช่
บุผนังช่องกระบวนการ
ใช่หรือไม่
ใช่
ควบคุมอุณหภูมิผนังช่อง
ไม่มี / อุณหภูมิห้อง-60/120°C
อุณหภูมิห้อง~60/120°C
ระบบควบคุม
อัตโนมัติ/ปรับแต่งได้
วัสดุสำหรับการแกะสลัก
เบสซิลิกอน: Si/SiO2/
SiNx/ SiC.....
วัสดุอินทรีย์: PR/อินทรีย์
ฟิล์ม......
เบสซิลิกอน: Si/SiO2/SiNx/SiC
กลุ่ม III-V: InP/GaAs/GaN......
IV-IV: SiC
กลุ่ม II-VI: CdTe......
วัสดุแม่เหล็ก / วัสดุLOY
วัสดุโลหะ: Ni\/Cr\/Al\/Cu\/Au...
วัสดุอินทรีย์: PR\/ฟิล์มอินทรีย์......
การกัดซิลิกอนแบบลึก
การแพ็คและจัดส่ง
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment details
ข้อมูลบริษัท
เรามีประสบการณ์ในการขายอุปกรณ์เป็นเวลา 16 ปี เราสามารถให้บริการโซลูชั่นแบบครบวงจรสำหรับสายการผลิตการบรรจุภัณฑ์หน้าและหลังของกึ่งตัวนำจากประเทศจีนแก่คุณได้
Inductive Coupling Plasma Etching System ( ICP ) Semiconductor equipment supplier

สอบถาม

สอบถาม Email WhatsApp Top
×

ติดต่อเรา