เครื่องลบ PR ICP พลาสมาสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ การลบ Photoresist และสารตกค้าง , China เครื่องลบ PR ICP พลาสมาสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ การลบ Photoresist และสารตกค้าง Manufacturers, Suppliers, Factory

คำอธิบายสินค้า

ICP PLASMA Photoresist Remover

การล้าง
การลบโพลิเมอร์
การลบแบบแห้งของชั้นแมสก์แข็ง
การลบโฟโตรีซิสต์หลังจากการฝังไอออน
การลบโฟโตรีซิสต์ในกระบวนการ BAW/SAW
การทำความสะอาดแบบแห้งของชั้นฟิล์มกราฟิกป้องกันแสงสะท้อน
การกำจัดสารตกค้างบนผิว
การทำความสะอาดผิวหลังการแกะสลัก
DESCUM

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

กระบวนการ

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

ข้อดี:

ข้อดีหลัก

อัตราการลอกกาวสูง: พลาสมาความหนาแน่นสูง ลอกกาวได้เร็ว
เสถียรภาพ: หลังจากการบำบัดด้วยพลาสมา มีความสามารถสืบคืนได้สูง
พลาสมาจากระยะไกล: พลาสมาจากระยะไกล ความเสียหายของไอออนต่อลูกปืนน้อย
ซอฟต์แวร์เด่น: การวิจัยและพัฒนาซอฟต์แวร์อย่างอิสระ การแสดงแอนิเมชั่นกระบวนการที่เข้าใจง่าย ข้อมูลและบันทึกอย่างละเอียด
ความสม่ำเสมอ: พลาสมาสามารถควบคุมแรงดันและความร้อนผ่านวาล์วทรงผีเสื้อ
ปัจจัยความปลอดภัย: พลาสมาต่ำลดความเสียหายของการปล่อยผลิตภัณฑ์
บริการหลังการขาย: การตอบสนองรวดเร็วและมีสินค้าคงคลังเพียงพอ
การควบคุมฝุ่น: ตรงตามข้อกำหนดของลูกค้า
เทคโนโลยีหลัก: มีสมาชิกในทีมวิจัยและพัฒนามากถึงเกือบ 40%

แพลตฟอร์มแคสเซ็ท (MD-ST 6100/620)

1. เครื่องบรรทุกลูกปืน 4 ตัว
2. ความเข้ากันได้สูง: ความยืดหยุ่นในการเลือกขนาดเวเฟอร์ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพต้นทุนและวิธีการแก้ปัญหา
3. เครื่องบรรจุภัณฑ์สุญญากาศเสถียร:
การออกแบบการส่งผ่านสุญญากาศที่สุกกับเสถียรได้รับการนำไปใช้อย่างแพร่หลายในตลาดมาเป็นเวลาหลายปี และได้รับการยอมรับจากลูกค้าอย่างดี
การออกแบบจานหมุน พื้นที่กะทัดรัด ลดความเสี่ยงของอนุภาค PARTICAL อย่างเห็นได้ชัด
4. อินเทอร์เฟซการทำงานของซอฟต์แวร์ที่เน้นความสะดวกสำหรับมนุษย์:
อินเทอร์เฟซการทำงานของซอฟต์แวร์ที่เน้นความสะดวกสำหรับมนุษย์อย่างชัดเจน สามารถตรวจสอบสถานะการทำงานของเครื่องแบบเรียลไทม์;
ฟังก์ชันเตือนและการป้องกันข้อผิดพลาดอย่างครอบคลุม เพื่อหลีกเลี่ยงการดำเนินการผิดพลาด
ฟังก์ชันการส่งออกข้อมูลที่ทรงพลัง บันทึกข้อมูลพารามิเตอร์กระบวนการต่าง ๆ และการส่งออกบันทึกการผลิตของผลิตภัณฑ์

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

Semiconductor industry ICP PLASMA PR removal machine Photoresist Residual Removal details

หุ่นยนต์

1. การออกแบบการเก็บและวางเวเฟอร์คู่ครั้งเดียวเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการผลิต
2. เพิ่มประสิทธิภาพการใช้พื้นที่

แผ่นทําความร้อน

1. การควบคุมอุณหภูมิแบบแม่นยำสูงสำหรับแผ่นเวเฟอร์
แผ่นทำความร้อนสำหรับเวเฟอร์จากอุณหภูมิห้องถึง 250°C ความแม่นยำในการควบคุมอุณหภูมิ ±1°C
แผ่นทำความร้อนสำหรับเวเฟอร์ได้รับการสอบเทียบด้วยเครื่องมือมืออาชีพ และมีความสม่ำเสมอภายใน ±3°C รับประกันความสม่ำเสมอของการลบกาว
2. การประมวลผลเวเฟอร์คู่ในห้องเดียว
การออกแบบเวเฟอร์คู่ในห้องเดียว;
การออกแบบการปล่อยพลังงานอิสระสำหรับแต่ละเวเฟอร์ รับประกันผลลัพธ์การลบ PR รอบๆ เวเฟอร์;
ภายใต้เงื่อนไขที่รับประกันประสิทธิภาพ UPH ลดต้นทุนของผลิตภัณฑ์ มีความเข้ากันได้สูง
3. กำลังการผลิต: ห้องปฏิกิริยาออกแบบสำหรับสองชิ้นพร้อมกัน มีประสิทธิภาพการผลิตสูง

ข้อมูลจำเพาะ

พลาสม่า			RF	RF
พลังงาน	ICP	1000W	1000W
พลังงาน		BIAS	600w(option)	600w(option)
ขอบเขตการใช้งาน			4~8 นิ้ว	4~8 นิ้ว
จำนวนแผ่นที่ประมวลผลเดี่ยว			1	2
ขนาดการปรากฏตัว			1080x1840x1800mm	1340x2050x1800mm
การควบคุมระบบ			ระบบควบคุมอุตสาหกรรม	ระบบควบคุมอุตสาหกรรม
ระดับอัตโนมัติ			อัตโนมัติ	อัตโนมัติ

ความสามารถทางฮาร์ดแวร์
เวลาทำงานจริง/เวลาที่พร้อมใช้งาน	≧95%
เวลาเฉลี่ยในการทำความสะอาด (MTTC)	≦6 ชั่วโมง
เวลาเฉลี่ยในการซ่อมแซม (MTTR)	≦4 ชั่วโมง
เวลาเฉลี่ยระหว่างการเสียหาย (MTBF)	≧350 ชั่วโมง
เวลาเฉลี่ยระหว่างการช่วยเหลือ (MTBA)	≧24 ชั่วโมง
จำนวนเวเฟอร์เฉลี่ยก่อนเกิดความเสียหาย (MWBB)	≦1 ใน 10,000 เวเฟอร์
การควบคุมแผ่นความร้อน	50-250°

รายงานผลการทดสอบ

มุมมองโรงงาน

การแพ็คและจัดส่ง

ข้อมูลบริษัท

เรามีประสบการณ์ด้านการขายอุปกรณ์ 16 ปี เราสามารถให้บริการคุณด้วยวิธีแก้ปัญหาแบบครบวงจรสำหรับอุปกรณ์ไลน์แพ็คเกจหน้าและหลังสุดของเซมิคอนดักเตอร์จากประเทศจีน!