ЗАДАЄМО ВИДАЛЕННЯ ФОТОРЕЗИСТУ ICP Сухий плазменний апарат для видалення фоторезисту , China ЗАДАЄМО ВИДАЛЕННЯ ФОТОРЕЗИСТУ ICP Сухий плазменний апарат для видалення фоторезисту Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

ICP Суха плазма Видалення фоторезисту

ICP суха плазма видалення фоторезисту використовується головним чином для видалення полімерів, ASHING, DESCUM, видалення фоторезисту після іонної імплантации та видалення поверхневих залишків. Камера придатна для зразків 4-8 дюймів, з 1-2 штуками оброблено в одному процесі.

Мивка
Видалення полімерів
Сухе видалення жорсткого маскувального шару
Видалення фоторезисту після іонної імплантации
Забрання фотоопору в процесі BAW/SAW
Суха чистка шару графічної фільмової антірефлексної покриття
Видалення поверхневих залишків
Очищення поверхні після етчингу
DESCUM

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine details

ASKING DESCUM photoresist removal ICP Dry Plasma Photoresist Removal Machine factory

Специфікація

Плазма			RF	RF
Потужність	ICP	1000 Вт	1000 Вт
Потужність		BIAS	600w(опція)	600w(опція)
Сфера застосування			4~8 дюймів	4~8 дюймів
Кількість оброблених пластин у одному циклі			1	2
Вигляд			1080x1840x1800мм	1340x2050x1800мм
Системне керування			Промислова система керування	Промислова система керування
Рівень автоматизації			автоматичний	автоматичний