Обладнання CVD для графену та матеріалів з уг勒одних нанотрубок / Напівпровідникове обладнання , China Обладнання CVD для графену та матеріалів з уг勒одних нанотрубок / Напівпровідникове обладнання Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

Обладнання CVD для матеріалів графену та карбонових нанотрубок

Обладнання головним чином використовується для процесу покриття графену та наноматеріалів; Дифузія, окислення та анелеювання багатокристалічного сильцію та карбіду сильцію.

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment details

CVD Equipment for Graphene and Carbon Nanotube Materials / Semiconductor equipment factory

Специфікація

структурний стиль	Горизонтальна, система з однією або багатьма трубками з автоматичним керуванням
Відповідає розміру пластинки	2-8″
Метод доставки та отримання пластинки	Автоматичний кільцевий кварцовий човен з приводом «натиск-тягнення», поєднаний із ручним заборонням та випуском чипів.
Максимальна температура	1050℃
Робоча температура	400 ℃~850 ℃ неперервно регулювано
Стабільність температури в одній точці	400℃~850℃≤±0.5℃/24г
Системний граничний вакуум	Краще за 1Па
Швидкість накачування	Час накачування до граничного вакууму < 15хв
діапазон робочого тиску	Від 5Па до 1 × 105Па неперервно регулювано
Джерело живлення	3-фазний 5-проводний 380В±10%, 50Гц
Охолоджувальна вода	2~4Кгс/см², 8Л/хв;

Упаковка та доставка

Профіль компанії

У нас є 16-річний досвід у продажу обладнання. Ми можемо запропонувати вам комплексне рішення для обладнання лінії упаковки передового та заднього кінця полупроводників з Китаю.