Обладнання CVD для графенових і вуглецевих нанотрубок / напівпровідникового обладнання , Китай CVD обладнання для графенових і вуглецевих нанотрубок / напівпровідникових матеріалів Виробники, постачальники, фабрика

Опис товару:

Обладнання CVD для матеріалів із графену та вуглецевих нанотрубок

Обладнання в основному використовується для процесу покриття графену та наноматеріалів; Дифузія, окислення та відпал полікристалічного кремнію та карбіду кремнію.

Обладнання CVD для матеріалів із графену та вуглецевих нанотрубок / Фабрика напівпровідникового обладнання

Специфікація

структурний стиль	Горизонтальна, однотрубна або багатотрубна система автоматичного керування
Адаптувати до розміру вафлі	2-8 ″
Спосіб доставки та вилучення вафель	Автоматичний консольний кварцовий штовхаючий човен у поєднанні з ручним прийомом та видаленням стружки.
максимальна температура	1050 ℃
робоча температура	400 ℃ ~ 850 ℃ безперервно регулюється
Стабільність температури в одній точці	400℃~850℃≤±0.5℃/24 год
Граничний вакуум системи	Краще, ніж 1 Па
швидкість прокачування	Час відкачування для обмеження вакууму < 15 хв
Діапазон робочого тиску	Від 5 Па до 1 × 105 Па безперервно регулюється
Джерело живлення	3-фазна 5-провідна 380В±10%, 50Гц
охолодження води	2~4 кгс/см², 8 л/хв;

Упаковка та доставка

профіль компанії

Ми маємо 16-річний досвід продажу обладнання. Ми можемо надати вам універсальне професійне рішення для лінійного обладнання для передньої та задньої панелі напівпровідників із Китаю.