Вакуумний плазменний пристрій для обробки поверхні MD-SPV100 Плазменне очищення Процесор Плазменний чистильник , China Вакуумний плазменний пристрій для обробки поверхні MD-SPV100 Плазменне очищення Процесор Плазменний чистильник Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

MD-SPV100 Вакуумний плазменний поверхневий обробник

MD-SPV100 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Processor Plasma Cleaner supplier

Переваги вакуумного плазменного очищення

Плазменне очищення є важливим методом модифікації поверхні матеріалу і широко використовується у багатьох галузях.
І деякі традиційні методи очищення, такі як ультразвукове очищення, УФ-очищення тощо, мають наступні переваги:
(A) Низька температура обробки
Температура обробки може бути як низькою до 80 °C - 50 °C. Низькі температури обробки гарантують відсутність термічних ефектів на поверхні зразка.
(B) Весь процес без забруднень
Плазменний чистильник сам по собі є дуже екологічно безпечним пристроєм, який не призводить до будь-якого забруднення, і не призводить до забруднення під час процесу обробки.
(C) Стабільний ефект обробки
Ефект плазменного очищення дуже рівномірний і стабільний, а результат зберігання зразків протягом довгого періоду часу добрый.
(D) Можна обробляти зразки різної форми
Для зразків складної форми плазменне очищення може знайти правильне рішення.

MD-SPV100 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Processor Plasma Cleaner manufacture

Частина зразків

MD-SPV100 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Processor Plasma Cleaner factory

Специфікація

Вакуумний плазменний приймальний блок ((100)
Розмір обладнання	Д 1000×Ш 900×В 1750мм
вага	500кг
Потребна електропостачаль	AC380V, 50/60Гц, 5 проводів, 25A (загальний відкритий тип над C)
Специфікація плазменного генератора
потужність	радіочастота	середньочастотний
		0~600W	0-1000W
частота постачання	13,56 МГц	40 К Гц
Вакуумна система
вакуумний насос	Надзвукова вакуумна насосна станція (насос з маслом): 60 м3/год
вакуумна труба	Вся лінія з нержавіючої сталі, а також вакуумні гофри з високою міцністю
якість матеріалу	alufer
товщина	25мм
герметичність	Загерметизування сваркою військового призначення
Внутрішні розміри камери	450450500мм (ширина * висота * глибина)
Ефективні розміри електродної пластини	322351мм (ширина глибина)
Доступний простір розміщення	20mm
Розташування електрообробки	Горизонтальна електродна плита
пalletи	Стандартна комплектація, матеріал за вибором (алюміній, стальна сітка)
робочий простір	8 шарів
процесний газ
Діапазон потоку	0~300SCCM
Маршрут процесного газу	Стандартно з двома шляхами, можливе налаштування під замовлення. Трубопровод для процесного газу виготовлений з ферофлону
навар
SC	ПЛК
інтерактивний режим	екран 7 дюймів з чутливим покриттям

Вид з заводу

Заявки

Упаковка та доставка

Профіль компанії

У нас є 16 років досвіду в продажу обладнання. Ми можемо запропонувати вам комплексне рішення для обладнання лінії пакування переднього та заднього етапу полупроводників з Китаю!