Вакуумний плазменний пристрій для обробки поверхні MD-SPV150 Плазменне очищення Чистильник Процесор , China Вакуумний плазменний пристрій для обробки поверхні MD-SPV150 Плазменне очищення Чистильник Процесор Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

MD-SPV150 Вакуумна плазменна система для обробки поверхонь

MD-SPV150 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Cleaner Processor factory

Переваги вакуумного плазменного очищення

Плазменне очищення є важливим методом модифікації поверхні матеріалу і широко використовується у багатьох галузях.
І деякі традиційні методи очищення, такі як ультразвукове очищення, УФ-очищення тощо, мають наступні переваги:
(A) Низька температура обробки
Температура обробки може бути як низькою до 80 °C - 50 °C. Низькі температури обробки гарантують відсутність термічних ефектів на поверхні зразка.
(B) Весь процес без забруднень
Плазменний чистильник сам по собі є дуже екологічно безпечним пристроєм, який не призводить до будь-якого забруднення, і не призводить до забруднення під час процесу обробки.
(C) Стабільний ефект обробки
Ефект плазменного очищення дуже рівномірний і стабільний, а результат зберігання зразків протягом довгого періоду часу добрый.
(D) Можна обробляти зразки різної форми
Для зразків складної форми плазменне очищення може знайти правильне рішення.

Частина зразків

MD-SPV150 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Cleaner Processor manufacture

Специфікація

Вакуумна плазменна установка (150)
Розмір обладнання	Д 1100×Ш 940×В 1755мм
вага	600кг
Потребна електропостачаль	AC380V, 50/60Гц, 5 проводів, 25A (загальний відкритий тип над C)
Специфікація плазменного генератора
потужність	радіочастота	середньочастотний
		0~1000Вт	0-2000W
частота постачання	13,56 МГц	40 К Гц
Вакуумна система
вакуумний насос	Помпа Leap монополь VSV 65 + Помпа Bowse Lots BSJ 70
вакуумна труба	Вся лінія з нержавіючої сталі, а також вакуумні гофри з високою міцністю
якість матеріалу	alufer
товщина	25мм
герметичність	Загерметизування сваркою військового призначення
Внутрішні розміри камери	500500600мм (ширинависотаглибина)
Ефективні розміри електродної пластини	372(Ш) X 451(Г)мм
Доступний простір розміщення	24мм
Розташування електрообробки	Горизонтальна електродна плита
пalletи	Стандартна комплектація, матеріал за вибором (алюміній, стальна сітка)
робочий простір	8 шарів
Процесний газ
Діапазон потоку	0~300SCCM
Маршрут процесного газу	Стандартно з двома шляхами, можливе налаштування під замовлення. Трубопровод для процесного газу виготовлений з ферофлону
Система управління
SC	Керування ПК
інтерактивний режим	Інтерфейс Windows

Вид з заводу

MD-SPV150 Vacuum Plasma Surface Treatment Machine Plasma Cleaning Cleaner Processor details

Заявки

Упаковка та доставка

Профіль компанії

У нас є 16 років досвіду в продажу обладнання. Ми можемо запропонувати вам комплексне рішення для обладнання лінії пакування переднього та заднього етапу полупроводників з Китаю!