Прилад для очищення плазмою нового покоління Мікроталасний чистильник плазми Обладнання для упаковування напівпровідників , China Прилад для очищення плазмою нового покоління Мікроталасний чистильник плазми Обладнання для упаковування напівпровідників Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

Мікрохвильовий плазмовий очисник

SPV-100MWR - це система низьковольтної мікроталасної плазменної очистки для напівпровідників. За допомогою мікроталасних хвиль частотою 2,45 ГГц, що застосовуються до вікна на стінці вакуумної камери, генерується велика кількість неперервної плазми, і чип очищується після входження в камеру.

New Generation Microwave plasma cleaner plasma cleaning machine Semiconductor Packaging solution equipment manufacture

New Generation Microwave plasma cleaner plasma cleaning machine Semiconductor Packaging solution equipment supplier

Заявки

New Generation Microwave plasma cleaner plasma cleaning machine Semiconductor Packaging solution equipment factory

Специфікація

Вакуумний плазменний агрегат
Розмір обладнання	1230X1800X1100мм (ширина x висота x глибина)
Вага	450KG
Енергозапит	AC380V, 50/60Hz, 5-провод, 30A
Специфікація плазменного генератора
Постачання енергії для мікрохвильових систем	Потужність	0~1250Вт
		Частота	2.45ГГц
Вакуумна система
Матеріал	Алюмінієвий сплав (змога зробити нержавіючий стальовий кам'яшок на замовлення)
Товщина	25мм
Внутрішні розміри камери	480ммX470ммX480мм
Робочі області	6 секцій журналу
ECR	Журнал з прорізнями забезпечує покращений ефект обробки ECR
Здатність до плазмової обробки
Здатність до обробки	35 мкм ПITCH 40 мкм БУМП 15X15 мм Максимальний розмір кристалу