Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

домашня сторінка
Про нас
MH Equipment
Рішення
Заграничні користувачі
Відео
зв'яжіться з нами
Головна> Видалення PR RTP USC
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку
  • Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку

Полупроводниковий промисел Касетний пристрій Груповий плазменний видалювач PR offline Видалення залишків фоточутливого лаку

Опис продукту

Касетний тип Груповий плазма Видалення фотоrezystу

DESCUM
Очищення пластинки
Видалення залишків фотоrezystу після вологого процесу
Видалення поверхневих залишків
Видалення залишків фотоrezystу після експозиції та розвитку
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal details
Процес
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Перевага:

ОСНОВНА ПЕРЕВАГА

Висока швидкість зголоження: Висока щільність плазми, швидка швидкість зголоження
Стійкість: Після плазменної обробки, висока воспроизводимість
Віддалена плазма: Віддалена плазма, низька іонна повредження пластини
Особливості програмного забезпечення: незалежне дослідження та розробка програмного забезпечення, інтуїтивна анімація процесу, детальні дані та записи
Рівномірність: Плазма може керувати тиском та температурою через заслонку-бабочка
Фактор безпеки: Низька плазма зменшує повредження продукту при випуску.
Післепродажні послуги: Швидка реакція та достатні запаси
Контроль пилу: Відповідає вимогам клієнта.
Ядрова технологія: Майже 40% членів команди R&D

Платформа Касет (MD-ST 6100/620)

1. 4 Переносники пластин
2. Висока сумісність: гнучкість вибору розміру кристалів забезпечує високу ефективність витрат і рішень
3. Вакуумна камера з високою стабільністю:
Досвідчений і стабільний дизайн вакуумної передачі багато років успішно застосовується на ринку і має високе визнання клієнтів.
Дизайн вертлюга, компактний простір, значно зменшує ризик ЧАСТИНИЦЬ
4. Гуманізований інтерфейс програмного забезпечення:
Інтуїтивно зрозумілий гуманізований інтерфейс програмного забезпечення, реальне моніторингове спостереження за станом працездатності машини;
Повний функціонал попередження та захисту від помилкових дій.
Могутній функціонал експорту даних, запис параметрів різних процесів та експорт записів виробництва продукції.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture

Робот

1. Дизайн одночасного вибірки та розміщення двох кристалів забезпечує високу продуктивність
2. Покращити ефективність використання простору.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal details

Отопляльна пластина

1. Високоточний контроль температури пластини для субстратів
Пластинка для нагріву субстратів від кімнатної температури до 250°C, точність керування температурою ±1°C
Пластинка для нагріву субстратів була калібрована професійними приладами, щоб забезпечити рівномірність. В межах ±3°C, що гарантує рівномірне видалення клею
2. Обробка двох субстратів у одному камере
Дизайн з одною камeroю для двох субстратів;
Незалежний випуск потужності для кожного субстрату, що забезпечує ефект видалення PR навколо кожного субстрату;
Забезпечуючи ефективність UPH, зменшуються вартості продукції. Висока сумісність
3. Потужність виробництва: реактор з дизайном для двох субстратів, висока продуктивність.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Специфікація
Plasma source
rF
мікрохвильова печка
Потужність
1000 Вт
1250w
Сфера застосування
4~8 дюймів
4~8 дюймів
Кількість оброблених пластин у одному циклі
4-6 дюймів = 50 штук / 8 дюймів = 25 штук
4-6 дюймів = 50 штук / 8 дюймів = 25 штук
Вигляд
1000x850x1700мм
1000x850x1700мм
системне керування
ПК
ПК
Рівень автоматизації
Посібник
Посібник
Матеріально-технічні можливості
Час роботи/Доступний час
≧95%
Середній час очищення (MTTC)
≦6 годин
Середній час на ремонт (MTTR)
≦4 години
Середній час між відмовами (MTBF)
≧350 годин
Середній час між допомогою (MTBA)
≧24 години
Середній кількість пластина між зламами (MWBB)
≦1 в 10 000 пластинах
Керування гріючою пластинкою
50-250°
Доповідь про випробування
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Вид з заводу
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Упаковка та доставка
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Профіль компанії
У нас є 16 років досвіду в продажу обладнання. Ми можемо запропонувати вам комплексне рішення для обладнання лінії пакування переднього та заднього етапу полупроводників з Китаю!
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR remover off line machine Photoresist Residual Removal details

запит

запит Email whatsapp WeChat
Top
×

ЗВ'ЯЖІТЬСЯ