Пристрій для видалення плазми фотоrezystу на півпровідникових пластинках Serious , China Пристрій для видалення плазми фотоrezystу на півпровідникових пластинках Serious Manufacturers, Suppliers, Factory

Опис продукту

BATCH PLASMA Пристрій для видалення фоторезисту з півпровідників

Температура обробки низька і може підтримувати плазму під високим тиском

DESCUM Очищення кристалів. Мокре видалення фоторезисту. Видалення поверхневих залишків. Видалення залишків фоторезисту після експонування та розвитку

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious supplier

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious manufacture

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious details

Semiconductor Wafer Plasma Photoresist Removal Machine PR Removal Equipment Serious factory

Специфікація

Plasma source	RF	мікрохвильова печка
Потужність	1000 Вт	1250w
Сфера застосування	4~8 дюймів	4~8 дюймів
Кількість оброблених пластин у одному циклі	4~6 дюймів = 50 штук\/8 дюймів = 25 штук	4~6 дюймів = 50 штук\/8 дюймів = 25 штук
Вигляд	1250x1630x1900мм	1250x1630x1900мм
Системне керування	ПК	ПК
Рівень автоматизації	Авто	Авто

Фабрика

Деталі продукту

Упаковка та доставка

Профіль компанії

16 років досвіду в експорті обладнання! Ми можемо запропонувати вам комплексне рішення для процесів та обладнання передньої та задньої частини напівпровідників!