dự án
|
Thông số kỹ thuật
|
ghi chú
|
||
1 |
Tổng quan Thiết bị |
Tên thiết bị: Máy phát triển keo đồng đều tự động hoàn toàn
|
||
Mã thiết bị: MD-2C2D6
|
||||
Quy cách wafer xử lý: tương thích với wafer chuẩn 4/6-inch
|
||||
Quy trình keo đồng đều: Cắt giỏ hoa → định tâm → keo đồng đều (rót → keo đồng đều → loại bỏ viền, mặt sau
rửa) → bảng nóng → bảng lạnh → đặt giỏ Quy trình phát triển: Cắt giỏ hoa → định tâm → phát triển (dung dịch phát triển → nước ion hóa, rửa mặt sau → làm khô bằng nitơ) → bảng nóng → bảng lạnh → đặt giỏ |
||||
Kích thước tổng thể (khoảng): 2100mm (R) * 1800mm (S) * 2100mm (C)
|
||||
Kích thước tủ hóa chất (khoảng): 1700(R) * 800(S) * 1600mm (C)
|
||||
Tổng trọng lượng (khoảng): 1000kg
|
||||
Chiều cao bàn làm việc: 1020 ± 50mm
|
||||
2 |
Đơn vị cassette
|
Số lượng: 2
|
||
Kích thước tương thích: 4/6 inch
|
||||
Phát hiện cassette: cảm biến microswitch
|
||||
Phát hiện kéo ra: Có, cảm biến phản xạ
|
||||
3 |
robot |
Số lượng: 1
|
||
Loại: Robot hút chân không hai tay
|
||||
Bậc tự do: 4 trục (R1, R2, Z, T)
|
||||
Vật liệu ngón: gốm
|
||||
Phương pháp cố định chất nền: phương pháp hấp thụ chân không
|
||||
Chức năng ánh xạ: Có
|
||||
Độ chính xác định vị: ± 0.1mm
|
||||
4 |
Đơn vị căn chỉnh trung tâm
|
Số lượng: 1 bộ
|
Căn chỉnh quang học tùy chọn
|
|
Phương pháp căn chỉnh: căn chỉnh cơ khí
|
||||
Độ chính xác căn chỉnh trung tâm: ± 0.2mm
|
||||
5 |
Đơn vị bơm keo đều |
Số lượng: 2 bộ (sau đây là cấu hình cho mỗi đơn vị)
|
||
Tốc độ quay của trục chính: -5000rpm~5000rpm
|
bánh lăn chịu tải
|
|||
Độ chính xác quay của trục: ± 1vòng/phút (50vòng/phút~5000vòng/phút)
|
||||
Chỉnh tốc độ quay của trục tối thiểu: 1vòng/phút
|
||||
Gia tốc quay của trục tối đa: 20000vòng/phút/giây
|
bánh lăn chịu tải
|
|||
Tay rót: 1 bộ
|
||||
Đường dẫn ống chất chống ánh sáng: 2 đường
|
||||
Đường kính vòi phun chất chống ánh sáng: 2.5mm
|
||||
Cách điện chất chống ánh sáng: 23 ± 0.5 ℃
|
tùy chọn
|
|||
Vòi phun làm ẩm: Có
|
||||
RRC: Có
|
||||
Buffer: Có, 200ml
|
||||
Phương pháp thả keo: thả trung tâm và thả quét là tùy chọn
|
||||
Tay gỡ viền: 1 bộ
|
||||
Đường kính vòi gỡ viền: 0.2mm
|
||||
Giám sát dòng chất lỏng gỡ viền: đồng hồ lưu lượng nổi
|
||||
Phạm vi dòng chất lỏng gỡ viền: 5-50ml/phút
|
||||
Ống rửa ngược: 2 đường (mỗi đường 4/6 inch với 1 kênh)
|
||||
Giám sát dòng rửa ngược: đồng hồ lưu lượng nổi
|
||||
Phạm vi dòng chất lỏng rửa ngược: 20-200ml/phút
|
||||
Phương pháp cố định chip: hút chân không diện tích nhỏ Chuck
|
||||
Báo động áp suất chân không: cảm biến áp suất chân không kỹ thuật số
|
||||
Vật liệu kẹp: PPS
|
||||
Vật liệu cốc: PP
|
||||
Giám sát xả cốc: cảm biến áp suất kỹ thuật số
|
||||
6 |
Đơn vị phát triển |
Cửa trập: có
|
||
Số lượng: 2 bộ (sau đây là cấu hình cho mỗi đơn vị)
|
||||
Tốc độ quay của trục chính: -5000rpm~5000rpm
|
bánh lăn chịu tải
|
|||
Độ chính xác quay của trục: ± 1vòng/phút (50vòng/phút~5000vòng/phút)
|
||||
Chỉnh tốc độ quay của trục tối thiểu: 1vòng/phút
|
||||
Gia tốc quay của trục tối đa: 20000vòng/phút/giây
|
bánh lăn chịu tải
|
|||
Tay phát triển: 1 bộ
|
||||
Ống dẫn phát triển: 2 chiều (vòi phun hình quạt / hình trụ)
|
||||
Lọc dung dịch phát triển: 0.2um
|
||||
Kiểm soát nhiệt độ dung dịch phát triển: 23 ± 0.5 ℃
|
tùy chọn
|
|||
Phạm vi lưu lượng giải pháp phát triển: 100 ~ 1000 ml/phút
|
||||
Chế độ chuyển động của cánh tay đang phát triển: điểm cố định hoặc quét
|
||||
Cánh tay hợp nhất: 1 bộ
|
||||
Đường ống dẫn nước phi ion hóa: 1 mạch
|
||||
Chuẩn bị và quy trình sử dụng
|
||||
Phạm vi lưu lượng nước phi ion hóa: 100 ~ 1000 ml/phút
|
||||
Đường ống làm khô nitơ: 1 mạch
|
||||
Chuẩn bị và quy trình sử dụng
|
||||
Phạm vi lưu lượng nitơ: 5-50L/min
|
||||
Nhà phát triển, nước phi ion hóa, giám sát dòng chảy nitơ: máy đo dòng chảy nổi
|
||||
Ống rửa ngược: 2 đường (mỗi đường 4/6 inch với 1 kênh)
|
||||
Giám sát dòng rửa ngược: đồng hồ lưu lượng nổi
|
||||
Phạm vi dòng chất lỏng rửa ngược: 20-200ml/phút
|
||||
Phương pháp cố định chip: hút chân không diện tích nhỏ Chuck
|
||||
Báo động áp suất chân không: cảm biến áp suất chân không kỹ thuật số
|
||||
Vật liệu kẹp: PPS
|
||||
Vật liệu kẹp: PPS
|
||||
Vật liệu cốc: PP
|
||||
Giám sát xả cốc: cảm biến áp suất kỹ thuật số
|
||||
7 |
Đơn vị dính |
Số lượng: 2
|
tùy chọn
|
|
Dải nhiệt độ: nhiệt độ phòng~180 ℃
|
||||
Độ đồng đều nhiệt: Nhiệt độ phòng~120 ℃± 0.75 ℃
120.1℃~ 180℃ ± 1.5℃ (Loại bỏ 10mm từ mép, ngoại trừ lỗ của đầu đẩy) |
||||
Số lượng điều chỉnh tối thiểu: 0.1 ° C
|
||||
Phương pháp kiểm soát nhiệt độ: Điều chỉnh PID
|
||||
Phạm vi chiều cao PIN: 0-20mm
|
||||
Chất liệu PIN: Thân SUS304, nắp đầu PIN PI
|
||||
Khoảng cách nướng: 0.2mm
|
||||
Báo động nhiệt độ cao: báo động chênh lệch dương và âm
|
||||
Phương pháp cung cấp: Bong bóng, 10 ± 2ml/phút
|
||||
Áp suất chân không trong buồng hoạt động: -5-20KPa
|
||||
8 |
Đơn vị đĩa nóng |
Số lượng: 10
|
||
Dải nhiệt độ: nhiệt độ phòng~250 ℃
|
||||
Độ đồng đều nhiệt: Nhiệt độ phòng~120 ℃± 0.75 ℃
120.1℃~ 180℃ ± 1.5℃ 180.1℃~250℃ ±2.0℃ (Loại bỏ 10mm từ mép, ngoại trừ lỗ của đầu đẩy) |
||||
Số điều chỉnh tối thiểu: 0.1 ℃
|
||||
Phương pháp kiểm soát nhiệt độ: Điều chỉnh PID
|
||||
Phạm vi chiều cao PIN: 0-20mm
|
||||
Chất liệu PIN: Thân SUS304, nắp đầu PIN PI
|
||||
Khoảng cách nướng: 0.2mm
|
||||
Báo động nhiệt độ cao: báo động chênh lệch dương và âm
|
||||
9 |
Đơn vị đĩa lạnh
|
Số lượng: 2
|
||
Dải nhiệt độ: 15-25 ℃
|
||||
Phương pháp làm mát: bơm tuần hoàn nhiệt độ hằng định
|
||||
10 |
Cung cấp hóa chất |
Bảo quản Photoresist: bơm keo khí nén * 4 bộ (bình chứa tùy chọn hoặc bơm keo điện)
|
||
Lượng keo phân phối: tối đa 12ml mỗi lần, độ chính xác ± 0.2ml
|
||||
Loại bỏ viền / rửa ngược / cung cấp RRC: bình áp lực 18L * 2 (tự động bổ sung)
|
||||
Giám sát mức dung dịch loại bỏ viền / rửa ngược / RRC: cảm biến quang điện
|
||||
Giám sát mức dung dịch Photoresist: cảm biến quang điện
|
||||
Xả nước thải keo đồng đều: bình chứa nước thải 10L
|
||||
Cung cấp chất phát triển: bình áp lực 18L * 4 (được lưu trữ trong tủ hóa chất ngoài máy)
|
||||
Cung cấp nước ion hóa: cung cấp trực tiếp từ nhà máy
|
||||
Phát triển giám sát mức chất lỏng: cảm biến quang điện
|
||||
Xả thải phát triển: xả thải nhà máy
|
||||
Cung cấp chất dính: bồn áp lực 10L * 1, bồn áp lực 2L * 1
|
||||
Giám sát mức chất dính: cảm biến quang điện
|
||||
11 |
hệ thống điều khiển |
Phương pháp điều khiển: PLC
|
||
Giao diện hoạt động người-máy: màn hình cảm ứng 17 inch
|
||||
Nguồn điện không gián đoạn (UPS): Có
|
||||
Đặt quyền truy cập mã hóa cho người vận hành thiết bị, kỹ thuật viên, quản trị viên
|
||||
Kiểu tháp tín hiệu: 3 màu đỏ, vàng, xanh lá
|
||||
12 |
Chỉ số độ tin cậy của hệ thống
|
Thời gian hoạt động: ≥95%
|
||
MTBF: ≥ 500h
|
||||
MTTR: ≤ 4h
|
||||
MTBA: ≥24h
|
||||
Tỷ lệ phân mảnh: ≤ 1/10000
|
||||
13 |
Các chức năng khác
|
Đèn vàng: 4 bộ (vị trí: trên đơn vị trộn keo và phát triển)
|
||
THC: Có, 22.5 ℃± 0.5 ℃, 45% ± 2%
|
tùy chọn
|
|||
FFU: Cấp độ 100, 5 bộ (khu vực đơn vị quy trình và ROBOT)
|
Copyright © Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd. All Rights Reserved