Công ty TNHH Công nghệ cao Minder Quảng Châu

Trang chủ
Về Chúng Tôi
Thiết bị MH
Dung dịch
Người dùng ở nước ngoài
Video
Liện hệ với chúng tôi
what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-42
Trang chủ> Quy trình giao diện người dùng

Mục đích của hệ thống xử lý nhiệt nhanh (RTP) trong quy trình sản xuất wafer là gì? Việt Nam

Thời gian: 2024-10-15

RTP 实拍.jpg

RTP sử dụng đèn hồng ngoại halogen làm nguồn nhiệt để nhanh chóng làm nóng vật liệu đến nhiệt độ mong muốn, do đó cải thiện cấu trúc tinh thể và tính chất quang điện tử của vật liệu.

Các tính năng của nó bao gồm hiệu suất cao, tiết kiệm năng lượng, mức độ tự động hóa cao và sưởi ấm đồng đều.

Ngoài ra, RTP còn có độ chính xác kiểm soát nhiệt độ cao và độ đồng đều nhiệt độ, có thể đáp ứng nhu cầu của nhiều quy trình phức tạp khác nhau.

Ngoài ra, RTP còn áp dụng hệ thống điều khiển vi máy tính tiên tiến và công nghệ điều khiển nhiệt độ vòng kín PID, có độ chính xác điều khiển nhiệt độ cao và độ đồng đều nhiệt độ, có thể đáp ứng nhu cầu của nhiều quy trình phức tạp khác nhau.

Bằng cách sử dụng các nguồn nhiệt hiệu quả như đèn hồng ngoại halogen để nhanh chóng làm nóng tấm wafer đến nhiệt độ được xác định trước, một số khuyết tật bên trong tấm wafer có thể được loại bỏ và cấu trúc tinh thể cũng như hiệu suất quang điện tử của tấm wafer có thể được cải thiện.

Việc kiểm soát nhiệt độ có độ chính xác cao này rất quan trọng đối với chất lượng của wafer và có thể cải thiện hiệu suất và độ tin cậy của wafer một cách hiệu quả.

Trong quá trình chế tạo wafer, ứng dụng RTP bao gồm nhưng không giới hạn ở các khía cạnh sau:

1. Tối ưu hóa cấu trúc tinh thể:

Nhiệt độ cao giúp sắp xếp lại cấu trúc tinh thể, loại bỏ các khuyết tật trong cấu trúc tinh thể, cải thiện tính trật tự của tinh thể, do đó cải thiện độ dẫn điện tử của vật liệu bán dẫn.

2. Loại bỏ tạp chất:

RTP có thể thúc đẩy sự khuếch tán tạp chất từ ​​tinh thể bán dẫn, làm giảm nồng độ tạp chất. Điều này giúp cải thiện các tính chất điện tử của thiết bị bán dẫn và làm giảm mức năng lượng hoặc sự tán xạ electron do tạp chất gây ra.

3. Trong công nghệ CMOS, RTP có thể được sử dụng để loại bỏ vật liệu nền như silicon oxide hoặc silicon nitride để tạo thành các thiết bị SOI (chất cách điện trên silicon) siêu mỏng.

RTP 半自动1.jpg

RTP là thiết bị then chốt trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, đặc trưng bởi độ chính xác cao, hiệu suất cao và tính linh hoạt cao. Nó có ý nghĩa to lớn trong việc cải thiện hiệu suất wafer và thúc đẩy sự phát triển của ngành công nghiệp bán dẫn.

what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-46Câu Hỏi what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-47E-mail what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-48WhatsApp what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-49 WeChat
what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-50
what is the purpose of a rapid thermal processingrtpsystem in wafer manufacturing process-51Áo sơ mi