نظام معالجة حرارية سريعة مكتبي RTP لشبه الموصلات المركبة، سيليكون الكربوني، والـ LED، وتقنيات MEMS , China نظام معالجة حرارية سريعة مكتبي RTP لشبه الموصلات المركبة، سيليكون الكربوني، والـ LED، وتقنيات MEMS Manufacturers, Suppliers, Factory

وصف المنتج

المعالجة الحرارية السريعة

توفير معدات RTP موثوقة لأشباه الموصلات المركبة، SlC، LED وMEMS

تطبيقات الصناعة

* نمو أكسيد، نيتريد
* سبيكة أوهيميك السريعة للتلامس
* إعادة تسخين سبيكة السيليسيد
* أكسدة الانعكاس
* عملية الأرسينيد الجاليوم
* عمليات تسخين سريع أخرى

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS details

مزايا المنتج

1. نطاق العملية يغطي 200-1250 ℃
2. نظام إدارة حقل درجة الحرارة القوي
3. خوارزمية RTP المخصصة
4. أداة معايرة محترفة لشرائح TC

مميز

* تسخين باستخدام أنبوب مصباح هالوجين تحت الحمراء، والتبريد باستخدام التبريد الهوائي؛
* تحكم PlD في درجة حرارة قوة المصباح، مما يمكن من التحكم الدقيق في ارتفاع درجة الحرارة، وضمان تكرار جيد وتجانس درجة الحرارة؛
* يتم وضع مدخل المادة على سطح WAFER لتجنب إنتاج نقاط باردة أثناء عملية التلدين وضمان تجانس جيد لدرجة حرارة المنتج؛
* يمكن اختيار كل من طرق المعالجة الجوية والشاغرة، مع معالجة ما قبل التنقية للجسم؛
* مجموعتان من الغازات العملية قياسيتان ويمكن توسيعهما إلى ما يصل إلى 6 مجموعات من غازات العملية;
* الحجم الأقصى لعينة وحيدة من الكريستال السيليكون القابلة للقياس هو 12 بوصة (300x300 مم);
* تم تنفيذ الثلاث تدابير الأمنية المتعلقة بحماية فتح درجة الحرارة الآمنة، وحماية الإذن بفتح محرك درجة الحرارة، وحماية الطوارئ لأمان المعدات بشكل كامل لضمان سلامة الأداة;

تطابق منحنيات الدرجة العشرين

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS manufacture

20 منحنى لتحكم درجة الحرارة عند 850 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS factory

تطابق 20 منحنى متوسط درجة الحرارة

تحكم درجة حرارة عند 1250 ℃

Rapid Thermal Processing Desktop RTP System for compound semiconductors SlC LED and MEMS supplier

تحكم درجة حرارة RTP عند عملية 1000 ℃

عملية عند 960 ℃، يتم التحكم بها بواسطة مقياس درجة حرارة تحت الحمراء

بيانات عملية LED

RTD Wafer هو مستشعر درجة حرارة يستخدم تقنيات معالجة خاصة لدمج مستشعرات درجة الحرارة (RTDs) في مواقع محددة على سطح البلاطة، مما يمكّن من قياس درجة حرارة سطح البلاطة في الوقت الفعلي.
يمكن الحصول على قياسات درجة الحرارة الحقيقية في مواقع محددة على البلاطة والتوزيع العام لدرجة حرارة البلاطة من خلال RTD Wafer؛ كما يمكن استخدامه لمراقبة مستمرة للتغيرات المؤقتة في درجة الحرارة على البلاطات أثناء عملية المعالجة الحرارية.