نظام المعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب RTP لأشباه الموصلات المركبة SlC LED و MEMS ، الصين نظام المعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب RTP لأشباه الموصلات المركبة SlC LED و MEMS المصنعين والموردين والمصنع

وصف المنتج

المعالجة الحرارية السريعة

توفير معدات RTP موثوقة لأشباه الموصلات المركبة، SlC، LED و MEMS

تطبيقات الصناعة

* نمو الأكسيد والنيتريد
* سبائك أومية الاتصال السريع
* التلدين لسبائك السيليسيد
* ارتجاع الأكسدة
*عملية زرنيخيد الجاليوم
* عمليات المعالجة الحرارية السريعة الأخرى

نظام RTP للمعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب لأشباه الموصلات المركبة وتفاصيل SlC LED وMEMS

مزايا المنتج

1. نطاق العملية يغطي 200-1250 درجة مئوية
2. نظام قوي لإدارة مجال درجة الحرارة
3. خوارزمية RTP مخصصة
4. أداة معايرة رقاقة TC الاحترافية

الميزات

* تسخين أنبوب مصباح الهالوجين بالأشعة تحت الحمراء، والتبريد باستخدام تبريد الهواء؛
* التحكم في درجة الحرارة PlD لطاقة المصباح، والذي يمكنه التحكم بدقة في ارتفاع درجة الحرارة، مما يضمن إمكانية تكرار نتائج جيدة وتوحيد درجة الحرارة؛
* يتم ضبط مدخل المادة على سطح WAFER لتجنب إنتاج النقطة الباردة أثناء عملية التلدين وضمان توحيد درجة الحرارة بشكل جيد للمنتج؛
* يمكن اختيار طرق العلاج الجوي والفراغي، مع المعالجة المسبقة وتنقية الجسم؛
* مجموعتان من غازات المعالجة قياسية ويمكن توسيعهما إلى ما يصل إلى 6 مجموعات من غازات المعالجة؛
* الحد الأقصى لحجم عينة السيليكون البلورية المفردة القابلة للقياس هو 12 بوصة (300 × 300 مم)؛
* يتم تنفيذ تدابير السلامة الثلاثة للحماية الآمنة لفتح درجة الحرارة، وحماية إذن فتح وحدة التحكم في درجة الحرارة، وحماية سلامة إيقاف الطوارئ للمعدات بالكامل لضمان سلامة الأداة؛

مصادفة منحنيات الدرجة العشرين

نظام RTP للمعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب لأشباه الموصلات المركبة SlC LED وتصنيع MEMS

20 منحنيًا للتحكم في درجة الحرارة عند 850 درجة مئوية

نظام RTP للمعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب لأشباه الموصلات المركبة SlC LED ومصنع MEMS

صدفة 20 منحنيات درجة الحرارة المتوسطة

التحكم في درجة الحرارة 1250 درجة مئوية

نظام RTP للمعالجة الحرارية السريعة لسطح المكتب لأشباه الموصلات المركبة SLC LED وMEMS

عملية التحكم في درجة الحرارة RTP 1000 درجة مئوية

عملية 960 درجة مئوية، يتم التحكم فيها بواسطة البيرومتر بالأشعة تحت الحمراء

بيانات عملية LED

RTD Wafer عبارة عن مستشعر لدرجة الحرارة يستخدم تقنيات معالجة خاصة لدمج مستشعرات درجة الحرارة (RTDs) في مواقع محددة على سطح الرقاقة، مما يتيح قياس درجة حرارة السطح على الرقاقة في الوقت الفعلي.
يمكن الحصول على قياسات درجة الحرارة الحقيقية في مواقع محددة على الرقاقة وتوزيع درجة الحرارة الشاملة للرقاقة من خلال RTD Wafer؛ ويمكن استخدامه أيضًا للمراقبة المستمرة للتغيرات في درجات الحرارة المؤقتة على الرقائق أثناء عملية المعالجة الحرارية.