Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

الصفحة الرئيسية
معلومات عنا
MH Equipment
حلول
المستخدمون في الخارج
فيديو
اتصل بنا
الصفحة الرئيسية> إزالة PR، RTP، USC
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا
  • آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا

آلة إزالة البلازما PR من نوع الكاسات في صناعة شرائح السيليكون لإزالة مادة الحماية الضوئية والبقايا

وصف المنتج

آلة إزالة بلازما PR من نوع الكاسات لمعالجة الدفعات

إزالة الشوائب (DESCUM)
تنظيف الوافر
إزالة الغراء المتبقية بعد العملية الرطبة
إزالة الرواسب السطحية
إزالة الغراء المتبقية بعد التعرض والتطوير
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
العملية
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
ميزة:

الميزة الرئيسية

معدل إزالة اللثة العالي: بلازما كثيفة، معدل إزالة سريع
الاستقرار: بعد معالجة البلازما، قابلية تكرار عالية
بلازما بعيدة: بلازما بعيدة، ضرر أيوني منخفض للوحة
برنامج مميز: تطوير مستقل للبرمجيات، رسوم متحركة عملية بديهية، بيانات وسجلات مفصلة
التجانس: يمكن للبلازما التحكم في الضغط والحرارة من خلال صمام الفراشة
عامل السلامة: البلازما المنخفضة تقلل من الضرر عند تصريف المنتج.
خدمة ما بعد البيع: استجابة سريعة ومخزون كافٍ
التحكم في الغبار: تلبية متطلبات العملاء.
التقنية الأساسية: مع حوالي 40% من أعضاء فريق البحث والتطوير

منصة الكاسيت (MD-ST 6100/620)

1. حاملات وافر مكونة من 4 أجزاء
2. توافق عالي: مرونة اختيار حجم الوافر تجلب كفاءة تكلفة وحل عالية
3. غرفة نقل شغور مستقرة عالية:
التصميم الناضج والمستقر لنقل الشغور تم تطبيقه في السوق بنجاح لسنوات عديدة وتم الاعتراف به بشكل جيد من قبل العملاء.
تصميم المنصة الدوارة، مساحة مدمجة، يقلل بشكل كبير من خطر الجسيمات
4. واجهة تشغيل برمجية إنسانية:
واجهة تشغيل برمجية إنسانية مباشرة، مراقبة فورية لحالة تشغيل الآلة؛
وظائف إنذار شاملة وحماية ضد الأخطاء لتجنب العمليات الخاطئة.
وظيفة تصدير بيانات قوية، تسجيلات لمختلف معالم العملية، وتصدير سجلات إنتاج المنتج.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory

روبوت

1. تصميم اختيار ووضع وافر مزدوج مرة واحدة يجلب إنتاجية عالية
2. تحسين كفاءة استخدام المساحة.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier

لوحة التدفئة

1. التحكم الدقيق في درجة حرارة لوحة الوافر
لوحة تسخين الوافر من درجة حرارة الغرفة إلى 250°C، دقة التحكم في درجة الحرارة ±1°C
تمت معايرة لوحة تسخين الوافر بأدوات متخصصة، والتوحيد ضمن ±3°C، لضمان اتساق إزالة اللصق
2. معالجة وافر مزدوجة في غرفة واحدة
تصميم معالجة وافر مزدوجة في غرفة واحدة؛
تصميم تصريف الطاقة المستقل لكل وافر، مما يضمن تأثير إزالة PR الدائري لكل وافر؛
تحت شرط ضمان كفاءة UPH، تقليل تكلفة المنتج. توافق قوي
3. سعة الإنتاج: تصميم غرفة تفاعل للقطعتين، كفاءة إنتاج عالية.
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
المواصفات
مصدر البلازما
rF
ميكروويف
طاقة
1000 واط
1250واط
نطاق التطبيق
4~8 بوصة
4~8 إنش
عدد الشرائح المعالجة بشكل فردي
4~6 بوصة = 50 قطعة / 8 بوصة = 25 قطعة
4~6 بوصة = 50 قطعة / 8 بوصة = 25 قطعة
الأبعاد الخارجية
1250x1630x1900 مم
1250x1630x1900 مم
تحكم النظام
PC
PC
مستوى الأتمتة
سيارات
سيارات
قدرة الأجهزة
الوقت المتاح للعمل
≧95%
متوسط ​​الوقت اللازم للتنظيف (MTTC)
≦6 ساعات
متوسط ​​الوقت اللازم لإصلاح (MTTR)
≦4 ساعات
متوسط ​​الفترة الزمنية بين الفشل (MTBF)
≧350 ساعة
الوقت المتوسط بين المساعد (MTBA)
≧24 ساعة
الوسيط المتوسط بين الكسور (MWBB)
≦1 في 10,000 شريحة
تحكم لوحة التدفئة
50-250°
تقرير الاختبار
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
عرض المصنع
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
التغليف والشحن
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal details
نبذة عن الشركة
لدينا 16 عامًا من الخبرة في بيع المعدات. يمكننا تقديم حل شامل لمعدات خطوط تغليف الأجهزة الإلكترونية الصغيرة (Semiconductor) للواجهة الأمامية والخلفية من الصين!
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal factory
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal supplier
Semiconductor industry Cassette type Batch plasma PR removal machine Photoresist Residual Removal manufacture

استفسار

استفسار Email واتساب Top
×

تواصل معنا