ما هو الغرض من نظام المعالجة الحرارية السريعة (RTP) في عملية تصنيع الرقاقة؟

تستخدم تقنية RTP مصابيح الهالوجين بالأشعة تحت الحمراء كمصدر للحرارة لتسخين المادة بسرعة إلى درجة الحرارة المطلوبة، وبالتالي تحسين البنية البلورية والخصائص البصرية الإلكترونية للمادة.

وتشمل ميزاتها الكفاءة العالية وتوفير الطاقة ودرجة عالية من الأتمتة والتدفئة الموحدة.

بالإضافة إلى ذلك، تتمتع RTP أيضًا بدقة عالية في التحكم في درجة الحرارة وتوحيد درجة الحرارة، مما يمكنها من تلبية احتياجات العمليات المعقدة المختلفة.

بالإضافة إلى ذلك، يعتمد RTP على نظام التحكم المتقدم بالكمبيوتر الدقيق وتكنولوجيا التحكم في درجة الحرارة ذات الحلقة المغلقة PID، ويتميز بدقة عالية في التحكم في درجة الحرارة وتوحيد درجة الحرارة، ويمكنه تلبية احتياجات العمليات المعقدة المختلفة.

من خلال استخدام مصادر الحرارة الفعالة مثل مصابيح الهالوجين بالأشعة تحت الحمراء لتسخين الرقاقة بسرعة إلى درجة حرارة محددة مسبقًا، يمكن القضاء على بعض العيوب داخل الرقاقة، وتحسين بنيتها البلورية والأداء البصري الإلكتروني.

يعد التحكم في درجة الحرارة عالية الدقة مهمًا جدًا لجودة الرقاقة ويمكنه تحسين أداء الرقاقة وموثوقيتها بشكل فعال.

في عملية تصنيع الرقاقة، يشمل تطبيق RTP، ولكن لا يقتصر على، الجوانب التالية:

1. تحسين البنية البلورية:

تساعد درجة الحرارة المرتفعة على إعادة ترتيب البنية البلورية، والقضاء على عيوب البنية البلورية، وتحسين ترتيب البلورة، وبالتالي تحسين التوصيل الإلكتروني للمواد شبه الموصلة.

2. إزالة النجاسة :

يمكن لـ RTP تعزيز انتشار الشوائب من بلورات أشباه الموصلات، مما يقلل من تركيز الشوائب. يساعد هذا في تحسين الخصائص الإلكترونية لأجهزة أشباه الموصلات وتقليل مستويات الطاقة أو تشتت الإلكترونات الناجم عن الشوائب.

3. في تقنية CMOS، يمكن استخدام RTP لإزالة مواد الركيزة مثل أكسيد السيليكون أو نتريد السيليكون لتشكيل أجهزة SOI (عازل على السيليكون) رقيقة للغاية.

تُعد تقنية RTP من المعدات الأساسية في عملية تصنيع أشباه الموصلات، وتتميز بالدقة العالية والكفاءة العالية والمرونة العالية. وهي ذات أهمية كبيرة لتحسين أداء الرقاقة وتعزيز تطوير صناعة أشباه الموصلات.