Masaüstü Sürətli Termal Emal / RTP SİSTEMİ Azərbaycan

Mürəkkəb yarımkeçiricilər üçün RTP avadanlığı、SlC、LED və MEMS

Sənaye tətbiqləri

Oksid, nitrid artımı

Ohmik kontakt sürətli ərintisi

Silisid ərintinin tavlanması

Oksidləşmə reflü

Qallium arsenid prosesi

Digər sürətli istilik müalicəsi prosesləri

Feature:

İnfraqırmızı halogen lampa borularının istiləşməsi, havanın soyudulmasından istifadə edərək soyutma;

Temperatur artımını dəqiq idarə edə bilən, yaxşı təkrarlanma və temperatur vahidliyini təmin edən lampa gücü üçün PlD temperatur nəzarəti;

Yuvlama prosesi zamanı soyuq nöqtə əmələ gəlməsinin qarşısını almaq və məhsulun yaxşı temperatur vahidliyini təmin etmək üçün materialın girişi WAFER səthinə qoyulur;

Həm atmosfer, həm də vakuum müalicəsi üsulları seçilə bilər, bədənin əvvəlcədən təmizlənməsi və təmizlənməsi;

Texnoloji qazların iki dəsti standartdır və 6 dəst proses qazına qədər genişləndirilə bilər;

Ölçülə bilən tək kristal silisium nümunəsinin maksimum ölçüsü 12 düymdür (300x300MM);

Təhlükəsiz temperaturun açılması mühafizəsi, temperatur tənzimləyicisinin açılması icazəsi mühafizəsi və avadanlıqların fövqəladə dayandırılması təhlükəsizliyinin qorunmasının üç təhlükəsizlik tədbiri alətin təhlükəsizliyini təmin etmək üçün tam şəkildə həyata keçirilir;

Test hesabatı:

20-ci dərəcəli əyrilərin üst-üstə düşməsi:

20 ℃ temperatur nəzarəti üçün 850 döngə

20 orta temperatur əyrisinin üst-üstə düşməsi

1250 ℃ temperatur nəzarəti

RTP temperatur nəzarəti 1000 ℃ prosesi

960 ℃ proses, infraqırmızı pirometr tərəfindən idarə olunur

LED proses məlumatları

RTD Wafer, vaflinin səthindəki xüsusi yerlərə temperatur sensorlarını (RTD) yerləşdirmək üçün xüsusi emal üsullarından istifadə edən temperatur sensorudur və vaflidə səth temperaturunun real vaxt rejimində ölçülməsinə imkan verir.

 Vaflidə xüsusi yerlərdə real temperaturun ölçülməsi və vaflinin ümumi temperatur paylanması RTD Wafer vasitəsilə əldə edilə bilər; Bundan əlavə, istilik müalicəsi prosesi zamanı vaflilərdə keçici temperatur dəyişikliklərinin davamlı monitorinqi üçün istifadə edilə bilər.