Guangzhou Minder-Hightech Co.,Ltd.

baş səhifə
Biz haqqında
MH Texnikası
Həll
Dünya Genişləndən İstifadəçilər
Video
Əlaqə
Ev> PR silməsi RTP USC
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ
  • Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ

Masaüstü Hərəkətli Termal İşləmə / RTP SİSTEMİ

Birləşmiş polümeridiklər üçün RTP texnikası 、SlC、LED və MEMS

Sənaye tətbiqləri

Oksid, nitrid rastladılması

Ohmi əlaqə sürətlə alLOYİng

Silisid alLOYİngin yaşlanması

Oksidasiya geri akımı

Gallium arsenid prosesi

Digər sürətli istilik işləmə prosesləri

خصوصيت:

İnfraqırmızı halogen lampa boru istifadəsi, hava soğutması ilə soğutma;

Lampın gücü üçün PlD temperatur idarəetməsi, ki bu dəqiqliklə temperaturun yüksəlməsini idarə edir və yaxşı təkrarlanabilirlik və temperatur uniformalığını təmin edir;

Materialın giriş nöqtəsi WAFER səthində qoyulub ki, anealing prosesində soğuq nöqtənin yaranmasını dayandırır və məhsulun yaxşı temperatur uniformalığını təmin edir;

Hər iki atmosferik və vakuum işləmə üsulları seçilməsi mümkündür, əsas materialın öncəlikli işlənməsi və toxumlaşdırılması da var;

İki proses gazu qrupu standartdır və 6 proses gazu qrupuna qədər genişləndirilə bilər;

Ölçünilə biləcək təkstil kristal silikon nümunənin maksimal ölçüsü 12inci(300x300MM);

Əmanətli temperaturun açılış müdafiəsi, temperatur idarəetməsinin açılış icazəsi müdafiəsi və texnik vasitənin acil dayandırılması təminatları tamamilə ətraflı şəkildə yerinə yetirilib ki, bunun vasitəsilə aparatura üçün təhlükəsizlik təmin edilir;

Test hesabatı:

20-dərəcəli qrafiklərin üst-üstə düşməsi:

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM supplier

850 ℃-də temperaturu idarə etmək üçün 20 krivu

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM details

20 orta temperatur krivullarının üxsəyi

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM details

1250 ℃ temperatur idarəetmə

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM supplier

RTP temperaturu idarəetmə 1000 ℃ prosesi

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM manufacture

960 ℃ prosesi, infraqırmızı pirometr tərəfindən idarə olunur

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM manufacture

LED proses məlumatları

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM factory

RTD Wafer, xüsusi işləmə üsullarından istifadə edərək waferin səthindəki müəyyən yerlərdə temperatur sensörəri (RTDs) qoymaqla waferin səth temperaturlarını real vaxt-da ölçməyə imkan verir.

Waferin səthindəki müəyyən yerlərdə həqiqi temperatur ölçümləri və waferin ümumi temperatur dastrıbuciyası RTD Wafer vasitəsi ilə alınabilir; Bu, istifadəçilərə istilik əməliyyatı prosesində waferlərdəki tranziensi temperatur dəyişikliklərinin təkrarlı izlənməsinə də imkan verir.

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM factory

Desktop Rapid Thermal Processing / RTP SYSTEM details

Sorğu

Sorğu Email WhatsApp Top
×

Əlaqəyə keçin