Aligner /Alignment Machine fotolitoqrafiyası , Çin Aligner /Alignment Machine fotolitoqrafiyası İstehsalçılar, Təchizatçılar, Fabrika

Products təsviri

Maska Aligner Litoqrafiya Maşını

Maska Aligner əsasən kiçik və orta miqyaslı inteqral sxemlərin, yarımkeçirici komponentlərin, optoelektronik cihazların, səthi akustik dalğa cihazlarının, nazik film sxemlərinin və güc elektron cihazlarının işlənib hazırlanmasında və istehsalında istifadə olunur.
Maska Aligner Həmçinin tanınır: maskanın düzülməsi ekspozisiya maşını, ekspozisiya sistemi, litoqrafiya sistemi və s., çiplərin istehsalı üçün əsas avadanlıqdır. O, işıqlandırma ilə maskadakı incə naxışları silikon vafli üzərində çap etmək üçün foto çapına bənzər texnologiyadan istifadə edir.
Əsasən aşağıdakılardan ibarətdir: yüksək dəqiqlikli hizalama tezgahı, durbinlə ayrılmış görünüş sahəsi şaquli mikroskop, binokulyar ayrılmış baxış sahəsi üfüqi mikroskop, rəqəmsal kamera, kompüter görüntü yaddaş sistemi, çox nöqtəli işıq mənbəyi (uçan göz) məruz qalma başlığı, PLC idarəetmə sistemi, pnevmatik sistem, vakuum sistemi, birbaşa qoşulmuş vakuum nasosu, ikinci dərəcəli vibrasiya əleyhinə stend və aksesuar qutusu

Aligner /Alignment Machine fotolitoqrafiya istehsalı

Aligner /Alignment Machine fotolitoqrafiya fabriki

Səciyyəvi

1. Yüksək vahidlikli uçan gözə məruz qalma başlığı / hava flotasiyasının düzəldilməsi mexanizmi / etibarlı vakuum sıxma ifşası. yüksək qətnamə.
2. Maska ilə hizalama üsulu sabitliyi və substratın qidalanmasını təmin edir, bu da bələdçi çəkisi və qüvvənin tutarlılığını təmin edir.
3. Boşluqsuz düz bələdçi, yüksək dəqiqlik, sürətli sürətdən istifadə.
4. Bütün standart fotorezistlərlə işləmək üçün uyğun olan bütün modellər. AZ, Shipley, SU 8 kimi.
5. Bütün model Sistem tərəfindən substrata 5 maska tətbiqinə ötürülən naxış keyfiyyəti ilk maskanın tətbiqindən sonra naxış keyfiyyəti ilə eyni olmalıdır.
6. Ekspozisiya müddəti 1 saniyə ilə 1 saat arasında tənzimlənə bilər. Hizalama dəqiqliyi 1 µm

Aligner / Alignment Machine fotolitoqrafiya tədarükçüsü

Aligner / Alignment Machine fotolitoqrafiya detalları

spesifikasiya

model	MD-G25A	MD-G25D	MD-G31		MD-G33
Ekspozisiya növü	Bir tərəf			İkitərəfli düzülmə və ikitərəfli ekspozisiya
Pozlama rejimi	Sərt, yumşaq və təmassız yaxınlıqla əlaqə saxlayın
Ekspozisiya başlığının miqdarı	1 Ekspozisiya başlığı			2 Ekspozisiya başlığı
İşıq mənbəyinin növü	GCQ350 sferik civə lampası						LED UV məruz qalma başlığı
Soyutma üsul	Air soyutma
Ekspozisiya sahəsi	Φ100mm	110 × 110mm	Φ100mm		150mm × 150mm
Pozlama rejimi	Təmasla uyğundur sərt, yumşaq
Ekspozisiya qeyri-bərabərliyi	Φ100mm<±3%<>	≤ ± 3%
Ekspozisiya həlli	2μm	1 mkm
Şüa intensivliyi (365 nm)	≥6mw/sm²	≤40mw/sm2	≥5mw/sm2		0～30mw/sm2
Şüa qeyri-bərabərliyi	≤ ± 4%	≤ ± 3%
UV işığının maksimum sapma bucağı	4 °	3 °
İşıqlandırma diapazonu	≤Φ117mm	Φ117mm	≤Φ117mm		Ön və arxa ≥ Φ115mm
Paz xətası kompensasiyası rejimi	Yarımkürəvi avtomatik kompensasiya			Avtomatik aradan qaldırılması		3 bal avtomatik kompensasiya
X və Y oxlarının hərəkəti	± 4mm	± 5mm	± 4mm		± 5 mm
θ səyahəti	± 3 °	≤5 °	≤±5º		≤0.5 °
XYZ substratın yerdəyişməsinin həlli	0.5sim	0.3sim	0.3sim		0.01sim
Mikroskop sistemi	İki tək lüləli mikroskop / İki CCD kamera
Ekranın ölçüsü	15 düym
Görüntü sisteminin həlli	2sim	1.5sim	1.5sim		1.5sim
Maska və substratın ölçülməsi məsafəsi	0.5 μm	0.3 μm
CCD hədəf səthinin diaqonal ölçüsü	1/3, (6mm)						40mm ~ 110mm
Masanın ölçüsünü təyin etmək	≤ Kvadrat 5*5 düym (Özelleştirilebilir spesifikasiyalar)
Substratın ölçüsü	Φ 100mm və ya 100*100mm kvadrat	60*49.5mm kvadrat	2 "-4"		1"x1"-5"x5"
Substratın qalınlığı	1-3mm	≤5 mm	1-3mm		≤5 mm
Vakuum nasosu	Yağsız səssiz (-0.07～－0.08MPα）
Təmiz sıxılmış hava	≥0.4MPα
Enerji təchizatı	AC 220V±10% 50HZ 1.5KW
Təmiz otaq dərəcəsi	Class 100
Təmiz otaq temperaturu	25 ℃ ± 2 ℃
Təmiz otağın nisbi rütubəti	≤60%
Təmiz otağın vibrasiya amplitüdü	4μm
Təchizat ölçüsü	1300 × 720 × 1600mm				1500 × 800 × 1600mm
Avadanlıqların çəkisi	200kg				280kg

Yüksək dəqiqlikli hizalama sisteminin istehsalı demək olar ki, mükəmməl dəqiq mexaniki prosesə malik olmalıdır. Hizalama sisteminin digər texniki problemi hizalama mikroskopudur. Mikroskopun görünüş sahəsini artırmaq üçün bir çox yüksək səviyyəli litoqrafiya maşınları LED işıqlandırmadan istifadə edir. Fokuslama funksiyası olan iki hizalama sistemi dəsti var. O, əsasən, mikroskopun əsas gövdəsinə yönəlmiş iki göz və iki baxış sahəsindən, bir cüt göz qapağından və bir cüt obyektiv linzadan ibarətdir (litoqrafiya maşını, adətən, istifadəçilər üçün müxtəlif böyüdücü ilə okulyar və obyektiv obyektiv təmin edir). CCD alignment sisteminin funksiyası maska və nümunənin düzülmə işarələrini böyütmək və monitorda təsvir etməkdir.

İş parçası mərhələsi maska nümunəsinin ümumi hərəkət mərhələsi (XY), maska nümunəsinin nisbi hərəkət mərhələsi (XY), fırlanma mərhələsi, nümunənin düzəldilməsi mexanizmi, nümunənin fokuslanma mexanizmindən ibarət olan litoqrafiya maşınının əsas hissəsidir. , vafli mərhələsi, maska qısqacı və çıxarılan maska mərhələsi. Nümunənin düzəldilməsi mexanizmi top oturacağı və yarımkürədən ibarətdir. Düzləşdirmə prosesində əvvəlcə top oturacağına və yarımkürəyə təzyiqli hava tətbiq edilir, sonra top oturacağı, yarımkürə və nümunə parçası fokuslanan əl çarxı vasitəsilə yuxarıya doğru hərəkət edir, beləliklə nümunə parçası maskaya qarşı düzəldilə bilər və sonra iki mövqeli üç yollu solenoid klapan hamarlama vəziyyətini saxlamaq üçün top oturacağını və yarımkürəni kilidləmə üçün vakuuma çevirir.

Minder-Hightech sizə Aligner/Alignment Machine vasitəsilə fotolitoqrafiya üçün qabaqcıl texnologiya gətirir.

Elektron məhsullarınızda sxemləri çap edərkən kifayət qədər dəqiqliklə mübarizə aparırsınız? Minder-Hightech-in Aligner/Alignment Machine ilə siz çap sxemləri istehsalında yüksək səviyyəli dəqiqliyə nail olacağınızı bilərək istirahət edə bilərsiniz.

Bu inqilabi element ilə siz fotolitoqrafiyadan istifadə edərək yüksək keyfiyyətli təsviri məhsula problemsiz köçürə bilərsiniz. Bu maşın materialın təsvirə uyğunlaşdırılmasının əməliyyat sistemi vasitəsilə dəqiqliyə zəmanət verir.

Şəkillər çap edildikdən və yükləndikdən sonra maşın tələb olunan ekspozisiya miqdarını və materialın şəkillərin qeyd edilməsi ilə necə uyğunlaşdığını hesablayır. Bu hesablama istehsal sənayesindəki texnoloji inkişafa cavab vermək üçün yenilənə bilən ən son kompüter proqramından istifadə etməklə həyata keçirilir.

Bu, mikrosxemlər, radiotezlik (RF) sxemləri və daxili sxemlər daxil olmaqla geniş diapazon yaratmağa imkan verəcəkdir. Bölmə kimyəvi aşındırma və elektrokaplama kimi müxtəlif tamamlayıcı prosedurların əlavə edilməsi ilə ən yaxşı aşındırma dərinliyini, yol enini və təbəqədən laylara uyğunlaşdırmanı istehsal edə bilər.

Məhsulumuzun üstünlüyü onun yüksək düzülmə yaratmaq qabiliyyətindədir ki, bu da naxışların material üzərində böyük dəqiqliklə yerləşdirilməsinə zəmanət verir. Çox mürəkkəb dizaynları heç bir deformasiya olmadan rahatlıqla çap edə bilərsiniz.

O, istifadəçi dostu, yığcam və səmərəli olmaqla onu müxtəlif istehsal müəssisələri və ya şirkətin ölçüsü üçün uyğun edir. Bundan əlavə, cihazımız texniki dəstək işçiləri komandamızla əl ilə qulluq və yerində təlimlə gəlir.

Minder-Hightech-in Aligner/Alignment Machine sxemlərinizi çap edərkən ən yaxşı nəticələr əldə etməyə kömək etmək üçün fotolitoqrafiya texnologiyasından istifadə edir. Ənənəvi çap üsulları ilə müqayisə edilə bilməyən yüksək dəqiqlik və dəqiqlik təklif edən yeni texnologiya səviyyəsini təcrübədən keçirin. Minder-Hightech-in Aligner/Alignment Machine, sizin istehsal şirkətinizin rəqabətdən bir addım öndə qalmaq üçün ehtiyac duyduğu şeydir. Bazarda ən yaxşı Aligner/Alignment Machine texnologiyasının üstünlüklərindən istifadə etmək üçün bu gün bizimlə əlaqə saxlayın.