Qrafen və Karbon Nanoboru Materialları üçün CVD Avadanlığı / Yarımkeçirici avadanlıq , Çin Qrafen və Karbon Nanoboru Materialları üçün CVD Avadanlığı / Yarımkeçirici avadanlıq İstehsalçılar, Təchizatçılar, Fabrika

Product Description

Qrafen və karbon nanoboru materialları üçün CVD avadanlığı

Avadanlıq əsasən qrafen və nano materialların texnoloji örtüklənməsi üçün istifadə olunur; Polikristal silisium və silisium karbidin diffuziyası, oksidləşməsi və əriməsi.

Qrafen və Karbon Nanoboru Materialları üçün CVD Avadanlığı / Yarımkeçirici avadanlıq fabriki

spesifikasiya

struktur üslubu	Üfüqi, tək boru və ya çox boru sistemi avtomatik idarəetmə
Gofret ölçüsünə uyğunlaşın	2-8 ″
Gofretin çatdırılması və götürülməsi üsulu	Əl ilə çip götürmə və buraxma ilə birləşdirilmiş avtomatik konsol kvars təkanlı qayıq.
maksimum temperatur	1050 ℃
işləmə temperaturu	400 ℃ ~ 850 ℃ davamlı olaraq tənzimlənir
Tək nöqtəli temperatur sabitliyi	400℃~850℃≤±0.5℃/24 saat
Sistem həddi vakuum	1Pa-dan daha yaxşıdır
nasos sürəti	Vakuumu məhdudlaşdırmaq üçün nasos vaxtı ＜ 15 dəqiqə
İş təzyiqi diapazonu	5Pa - 1 × 105Pa davamlı tənzimlənə bilər
Qidalanma	3 fazalı 5 naqilli 380V±10%，50Hz
soyuducu su	2~4Kgf/sm²，8L/dəq;

Qablaşdırma və Çatdırılma

Profili

Avadanlıqların satışı üzrə 16 illik təcrübəmiz var. Biz sizə Çindən One-stop Semiconductor Front-end və Back end Package Line avadanlıqlarının peşəkar həllini təqdim edə bilərik.